Productos Hornos de Alta Temperatura MPCVD Sistema de máquina MPCVD Reactor Resonador de campana para laboratorio y crecimiento de diamantes
Sistema de máquina MPCVD Reactor Resonador de campana para laboratorio y crecimiento de diamantes

MPCVD

Sistema de máquina MPCVD Reactor Resonador de campana para laboratorio y crecimiento de diamantes

Número de artículo : KTMP315

El precio varía según Especificaciones y personalizaciones


Potencia de microondas
1~10 kW
Área de cultivo del sustrato
3 pulgadas
Carga máxima del lote
45 piezas de diamante
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Gracias a su excepcional I+D y fabricación propia, KINTEK ofrece sistemas de deposición química en fase vapor por plasma de microondas (MPCVD) de última generación. Nuestras máquinas están meticulosamente diseñadas para ofrecer fiabilidad, eficiencia y una producción constante de diamantes de alta pureza y calidad, satisfaciendo diversas necesidades industriales y de laboratorio.

Por qué los sistemas MPCVD de KINTEK son su mejor elección

En KINTEK, estamos comprometidos con el avance de la tecnología de síntesis de diamantes. Nuestros sistemas MPCVD ofrecen una combinación convincente de rendimiento, innovación y soporte:

  • Fiabilidad y rendimiento inigualables: Con una estabilidad operativa documentada que supera las 40.000 horas, nuestros equipos MPCVD establecen el estándar del sector en cuanto a fiabilidad, repetibilidad y rentabilidad. Puede confiar en los sistemas KINTEK para obtener resultados consistentes, funcionamiento tras funcionamiento.
  • Tecnología avanzada: Reinvertimos continuamente en I+D, implementando múltiples actualizaciones y mejoras. Este compromiso se traduce en sistemas MPCVD con una eficiencia significativamente mejorada y costes operativos reducidos para nuestros clientes.
  • Ventajas clave del sistema:
    • Amplia área de crecimiento: Dispone de un área de crecimiento de sustrato de 3 pulgadas, con capacidad para una carga de lote máxima de hasta 45 piezas de diamante.
    • Eficiencia energética: Equipado con una potencia de microondas de salida ajustable de 1-10 kW, minimiza el consumo eléctrico sin comprometer el rendimiento.
    • Transferencia de conocimientos de expertos: Benefíciese del apoyo de nuestro experimentado equipo de investigación, incluido el acceso a recetas de vanguardia para el cultivo de diamantes.
    • Soporte integral para todos los usuarios: Ofrecemos un exclusivo programa de asistencia técnica que permite alcanzar el éxito incluso a equipos sin experiencia previa en el cultivo de diamantes.

Escaparate visual: La ventaja de KINTEK MPCVD en acción

Vea los notables resultados y la ingeniería de precisión de nuestra tecnología MPCVD:

Nuevo modelo de máquina de diamante MPCVD
Nuevo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Diamante en bruto cultivado por la máquina MPCVD de KINTEK
Diamante en bruto cultivado por la máquina KINTEK MPCVD
En la máquina MPCVD KinTek, los diamantes crecen
En la máquina MPCVD KinTek, los diamantes crecen
Diamantes cultivados por MPCVD después del pulido
Diamantes cultivados por MPCVD después del pulido
Policristalino por KinTek MPCVD
Diamante policristalino cultivado por KinTek MPCVD

Tecnología MPCVD

MPCVD (deposición química en fase vapor por plasma de microondas) es una técnica avanzada para sintetizar películas y monocristales de diamante de alta calidad. Consiste en crear un plasma generado por microondas a partir de gases que contienen carbono (como metano, CH4) mezclados con otros gases (como H2, Ar, O2, N2) dentro de una cámara de vacío. Este plasma facilita la deposición precisa de átomos de carbono sobre un sustrato, lo que permite el crecimiento controlado del material de diamante.

Ventajas generales del método MPCVD

En comparación con otras técnicas de síntesis como la de alta presión y alta temperatura (HPHT), la MPCVD ofrece varias ventajas clave:

  • Diamantes de mayor pureza: El plasma sin contacto y el entorno controlado minimizan la contaminación.
  • Menor consumo de energía: Generalmente más eficiente energéticamente que HPHT.
  • Potencial para diamantes más grandes: Adecuado para el cultivo de diamantes monocristalinos de mayor tamaño y películas extensas.
  • Control versátil del gas: Permite el uso de múltiples gases, ofreciendo flexibilidad en el ajuste de las propiedades del diamante.
  • Procesamiento estable: Ofrece un ajuste suave de la potencia de microondas y un control estable de la temperatura, lo que resulta crucial para obtener una calidad constante y evitar problemas como la pérdida de cristales de siembra.

Estas características hacen del MPCVD un método prometedor y ampliamente adoptado para aplicaciones industriales e investigación avanzada, especialmente cuando la alta calidad y el crecimiento controlado son primordiales.

Aplicaciones Diversas, Desbloqueadas por el MPCVD de KINTEK

Los sistemas MPCVD de KINTEK están diseñados para satisfacer las demandas de diversas aplicaciones de vanguardia, aprovechando las propiedades únicas del diamante, tales como dureza excepcional, alta rigidez, conductividad térmica superior, baja expansión térmica, dureza a la radiación e inercia química:

  • Piedras cultivadas en laboratorio: Producción de diamantes de gran tamaño y alta calidad para el mercado de la joyería a un coste competitivo, ofreciendo una alternativa ética y sostenible.
  • Industria de semiconductores: Crecimiento de sustratos de diamante de gran superficie y gran pureza, cruciales para la electrónica de potencia de nueva generación, la informática cuántica y los sensores avanzados.
  • Componentes ópticos: Creación de películas y ventanas de diamante con transmisión óptica, estabilidad térmica y durabilidad superiores para láseres y otros sistemas ópticos.
  • Herramientas industriales: Fabricación de herramientas de corte, taladrado y rectificado recubiertas de diamante de gran durabilidad para el mecanizado de materiales duros y abrasivos.
  • Investigación y desarrollo: Proporcionar una plataforma versátil y fiable para investigadores académicos e industriales que exploran nuevos materiales de diamante, técnicas de dopaje y aplicaciones.

Nuestra tecnología MPCVD ofrece una ventaja significativa sobre los métodos HPHT tradicionales, especialmente para aplicaciones que requieren diamantes de gran tamaño y alta pureza. Esto posiciona a los sistemas KINTEK como una solución ideal para los mercados de semiconductores, óptica y joyería moderna, impulsando la innovación y permitiendo nuevas posibilidades.

En profundidad: Diseño y funcionamiento del sistema MPCVD de KINTEK

Cómo funcionan nuestros sistemas MPCVD (proceso de trabajo)

La máquina KINTEK MPCVD controla meticulosamente el flujo de cada ruta de gas (gases reactivos como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) y la presión de la cavidad. Los gases se introducen en la cavidad a presiones específicas definidas por receta. Tras estabilizar el flujo de aire, un generador de microondas de estado sólido de 6 kW (u otra potencia especificada) produce microondas, que se guían al interior de la cavidad a través de una guía de ondas.

Dentro del campo de microondas, el gas de reacción se transforma en un estado de plasma, formando una bola de plasma estable que se cierne con precisión sobre el sustrato de diamante. El intenso calor del plasma eleva el sustrato a la temperatura óptima de crecimiento. El exceso de calor generado dentro de la cavidad se disipa eficazmente mediante una unidad integrada de refrigeración por agua.

Para garantizar unas condiciones de crecimiento óptimas durante el proceso de crecimiento del diamante monocristalino MPCVD, los operadores pueden ajustar con precisión factores como la potencia de las microondas, la composición de la fuente de gas y la presión de la cavidad. Una ventaja clave es que la bola de plasma no entra en contacto con la pared de la cavidad, lo que garantiza que el proceso de crecimiento del diamante esté libre de impurezas, mejorando así significativamente la calidad y pureza del diamante.

Componentes y detalles del sistema

Componente del sistema de microondas de KINTEK MPCVD

Sistema de microondas

Cámara de reacción de KINTEK MPCVD

Cámara de reacción

Sistema de flujo de gas para KINTEK MPCVD

Sistema de flujo de gas

Sistema de vacío y sensores en KINTEK MPCVD

Sistema de vacío y sensores

Simulación de plasma en MPCVD de KINTEK
Simulación de plasma KinTek MPCVD para crecimiento optimizado

Especificaciones técnicas completas

Sistema de microondas
  • Frecuencia de microondas 2450±15MHZ,
  • Potencia de salida 1~10 KW ajustable continuamente
  • Estabilidad de la potencia de salida de microondas <±1%
  • Fuga de microondas ≤2MW/cm2
  • Interfaz de guía de ondas de salida: WR340, 430 con brida estándar FD-340, 430
  • Flujo de agua de refrigeración: 6-12L/min
  • Coeficiente de onda estacionaria del sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Microondas manual Ajustador de 3 pines, cavidad de excitación, carga de alta potencia
  • Fuente de alimentación de entrada: 380VAC/50Hz ± 10%, trifásica
Cámara de reacción
  • Tasa de fuga de vacío<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La presión límite es inferior a 0,7 Pa (configuración estándar con vacuómetro Pirani)
  • El aumento de presión de la cámara no superará los 50 Pa tras 12 horas de mantenimiento de la presión
  • Modo de trabajo de la cámara de reacción: Modo TM021 o TM023
  • Tipo de cavidad: Cavidad resonante tipo mariposa, con potencia máxima de 10KW, fabricada en acero inoxidable 304, con capa intermedia refrigerada por agua, y método de sellado con placa de cuarzo de alta pureza.
  • Modo de admisión de aire: Entrada de aire uniforme anular superior
  • Sellado al vacío: La conexión inferior de la cámara principal y la puerta de inyección están selladas con anillos de goma, la bomba de vacío y los fuelles están sellados con KF, la placa de cuarzo está sellada con un anillo metálico en C, y el resto está sellado con CF
  • Ventana de observación y medición de la temperatura 4 puertos de observación
  • Puerto de carga de muestras delante de la cámara
  • Descarga estable dentro del rango de presión de 0,7KPa~30KPa (la presión de alimentación debe estar adaptada)
Soporte de muestras
  • Diámetro de la mesa de muestras≥70mm, área efectiva de uso≥64 mm
  • Plataforma de la placa base estructura de sándwich refrigerada por agua
  • El portamuestras puede levantarse y bajarse uniformemente de forma eléctrica en la cavidad
Sistema de flujo de gas
  • Disco de aire de soldadura totalmente metálico
  • Se utilizarán juntas de soldadura o VCR para todos los circuitos de gas internos del equipo.
  • Caudalímetro MFC de 5 canales, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Presión de trabajo 0.05-0.3MPa, precisión ±2%.
  • Control de válvula neumática independiente para cada caudalímetro de canal
Sistema de refrigeración
  • Refrigeración por agua de 3 líneas, control en tiempo real de la temperatura y el caudal.
  • El flujo de agua de refrigeración del sistema es ≤ 50L/min.
  • La presión del agua de refrigeración es<4KG, y la temperatura del agua de entrada es de 20-25 ℃.
Sensor de temperatura
  • El termómetro infrarrojo externo tiene un rango de temperatura de 300-1400 ℃.
  • Precisión del control de temperatura < 2 ℃ o 2%.
Sistema de control
  • Se adopta Siemens smart 200 PLC y control de pantalla táctil.
  • El sistema tiene una variedad de programas, que pueden realizar el equilibrio automático de la temperatura de crecimiento, el control preciso de la presión del aire de crecimiento, el aumento automático de la temperatura, la caída automática de la temperatura y otras funciones.
  • El funcionamiento estable del equipo y la protección integral del equipo se puede lograr a través de la supervisión del flujo de agua, temperatura, presión y otros parámetros, y la fiabilidad y la seguridad de la operación se puede garantizar a través de enclavamiento funcional.
Función opcional
  • Sistema de monitorización del centro
  • Potencia de base del sustrato

Asóciese con KINTEK para sus necesidades de materiales avanzados

KINTEK es un líder reconocido en el suministro de soluciones avanzadas de hornos de alta temperatura, respaldado por una excepcional capacidad de I+D y una dedicada fabricación propia. Nuestra extensa línea de productos, que incluye hornos de mufla, hornos tubulares, hornos rotativos, hornos de vacío y atmósfera y sistemas especializados de CVD/PECVD/MPCVD, es un testimonio de nuestra amplia experiencia en el procesamiento térmico y la ciencia de los materiales. Nos enorgullecemos de nuestra gran capacidad de personalización, que nos permite satisfacer con precisión sus requisitos exclusivos de producción experimental o industrial.

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Descubra cómo los avanzados sistemas MPCVD de KINTEK pueden elevar sus capacidades. Tanto si se centra en la producción de piedras preciosas, materiales semiconductores, componentes ópticos o investigación pionera, nuestro equipo de expertos está aquí para ayudarle a encontrar la solución perfecta. Ofrecemos asesoramiento personalizado, especificaciones detalladas y sistemas personalizados adaptados a sus necesidades.

Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para hablar de su proyecto, solicitar un presupuesto u obtener más información sobre cómo KINTEK puede potenciar su éxito en la síntesis de diamante.

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FAQ

¿Cuál Es El Principio De Una Máquina MPCVD?

Una máquina MPCVD (deposición química en fase vapor por plasma mediante microondas) funciona utilizando un generador de microondas para producir plasma mediante la ionización de una mezcla de gases. Este plasma se aloja en una cámara de reacción a baja presión, donde el sustrato se sujeta mediante un soporte de sustrato. Los componentes clave incluyen un generador de microondas, una cámara de plasma, un sistema de suministro de gas, un soporte de sustrato y un sistema de vacío.

¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina MPCVD?

Las máquinas MPCVD ofrecen varias ventajas: eliminan la contaminación de los hilos calientes (descarga no polar), permiten el uso de múltiples gases, proporcionan un control estable de la temperatura de reacción, permiten una descarga de plasma estable de gran superficie y ofrecen un control preciso del espesor de la película, la pureza y la calidad del cristal. Además, producen películas de diamante de gran superficie, garantizan condiciones estables, mantienen una calidad constante de la muestra y son rentables.

¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Las Máquinas MPCVD?

Las máquinas MPCVD se utilizan principalmente para la síntesis de diamantes de alta pureza cultivados en laboratorio, incluidas las películas de diamante y otros materiales avanzados. Sus aplicaciones se extienden a la investigación de semiconductores, óptica y MEMS (sistemas microelectromecánicos) debido a su capacidad para producir películas homogéneas de alta calidad con un control preciso.

¿Cuáles Son Los Principales Componentes De Una Máquina MPCVD?

Los principales componentes de una máquina MPCVD incluyen un generador de microondas (para producir plasma), una cámara de reacción (para alojar el sustrato y la mezcla de gases a baja presión), un soporte de sustrato (para sujetar el sustrato durante la deposición), un sistema de suministro de gas (para introducir y controlar la mezcla de gases) y un sistema de vacío (para mantener el entorno de baja presión necesario).

¿Cómo Mejora La Eficiencia Energética Una Máquina MPCVD?

Una máquina MPCVD mejora la eficiencia energética gracias a su proceso sin electrodos, que reduce la contaminación y la pérdida de energía. La generación de plasma por microondas es altamente eficiente, y el diseño modular y escalable del sistema permite optimizar el uso de la energía en diversas aplicaciones industriales.

¿Por Qué Se Prefiere El MPCVD Para El Crecimiento Del Diamante?

El MPCVD es el método preferido para el crecimiento del diamante porque proporciona una alta densidad de partículas cargadas y especies reactivas, permite la deposición de películas de diamante de gran superficie a presiones más bajas y garantiza una mayor homogeneidad en las películas crecidas. Estas características dan como resultado diamantes de gran pureza y calidad con un control preciso de sus propiedades.
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Sistema de máquina MPCVD Reactor Resonador de campana para laboratorio y crecimiento de diamantes

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