CVD & PECVD Furnace
Horno de tubo CVD versátil hecho a medida Equipo de deposición química de vapor CVD Máquina
Número de artículo : KT-CTF16
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1600℃
- Precisión del control de temperatura
- ±1℃
- Presión de vacío (opción de alto vacío)
- 6x10-5Pa
Envío:
Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Horno tubular CVD avanzado de KINTEK: precisión, versatilidad y personalización
Aprovechando su excepcional I+D y fabricación propia, KINTEK proporciona a diversos laboratorios y clientes industriales soluciones avanzadas de hornos de alta temperatura. Nuestra amplia línea de productos, que incluye hornos de mufla, tubulares y rotativos, hornos de vacío y atmósfera y sistemas especializados de CVD/PECVD/MPCVD, está respaldada por nuestra gran capacidad de personalización. Nos comprometemos a satisfacer con precisión sus requisitos exclusivos de experimentación y producción.
Resumen de productos: Horno tubular CVD de alto rendimiento
El horno tubular de deposición química en fase vapor (CVD) de KINTEK está meticulosamente diseñado para procesos que exigen un control preciso de la temperatura, la atmósfera y el flujo de gas. Es ideal para depositar películas finas de alta calidad de diversos materiales, incluidos materiales aislantes, metálicos y de aleaciones metálicas, cruciales para la investigación y las aplicaciones industriales. Nuestros hornos CVD suelen disponer de varias zonas de calentamiento para una uniformidad superior de la temperatura, sistemas de vacío robustos y sofisticadas estaciones de control de flujo másico de gas para un suministro preciso de precursores. Dependiendo de la configuración, estos sistemas pueden alcanzar temperaturas de hasta 1600°C (como en nuestro modelo KT-CTF16-60) y niveles de vacío de hasta 6x10 -5 Pa con opciones de alto vacío.
Principales ventajas y características
Nuestros hornos tubulares CVD están diseñados para ofrecer un rendimiento y una fiabilidad excepcionales para sus procesos críticos:
- Control y uniformidad precisos de la temperatura: El calentamiento multizona (por ejemplo, 3x300 mm en el KT-CTF16-60) y los controladores PID avanzados (precisión de ±1 °C) garantizan perfiles de temperatura estables y uniformes, esenciales para una calidad constante de la película.
- Funcionamiento versátil a altas temperaturas: Capaz de alcanzar altas temperaturas (por ejemplo, hasta 1600°C de temperatura de trabajo constante 1550°C para el modelo KT-CTF16-60), adecuado para una amplia gama de procesos CVD y síntesis de materiales.
- Gestión avanzada de gases: Los sistemas de control de flujo másico (MFC) multicanal permiten una mezcla y suministro precisos de los gases reactivos, con una alta linealidad (±0,5% F.S.) y repetibilidad (±0,2% F.S.).
- Capacidades flexibles de vacío y atmósfera: Los sistemas pueden configurarse para varios niveles de vacío, desde bombas rotativas de paletas estándar (por ejemplo, 10Pa) hasta estaciones de bombas moleculares de alto vacío (por ejemplo, 6x10 -5 Pa), o funcionar en atmósferas inertes/reactivas controladas.
- Construcción duradera: Utiliza tubos de horno de gran pureza (por ejemplo, Al 2 O 3 ) y materiales de cámara de calidad (por ejemplo, fibra policristalina de alúmina) para garantizar la longevidad y la integridad del proceso.
- Interfaz fácil de usar: Las opciones de controladores PID digitales o controladores PID de pantalla táctil ofrecen un funcionamiento intuitivo, registro de datos y configuración sencilla.
- Diseño personalizable: Adaptado a sus necesidades específicas, desde el diámetro del tubo y la longitud de la zona de calentamiento hasta los canales de gas y los componentes de vacío.
- Compacto y eficiente: Diseñados para ocupar poco espacio sin comprometer el rendimiento, lo que los hace adecuados para diversos entornos de laboratorio e industriales.
Especificaciones técnicas (Ejemplo: Modelo KT-CTF16-60)
Las siguientes especificaciones corresponden a nuestro modelo KT-CTF16-60. Tenga en cuenta que las especificaciones se pueden personalizar según sus requisitos.
| Modelo de horno | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Temperatura máxima | 1600℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1550℃ |
| Material del tubo del horno | Tubo de Al2O3 de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60mm |
| Zona de calentamiento | 3x300mm |
| Material de la cámara | Fibra policristalina de alúmina |
| Elemento calefactor | Carburo de silicio |
| Velocidad de calentamiento | 0-10℃/min |
| Par térmico | Tipo S |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Unidad de control preciso de gas | |
| Caudalímetro | Caudalímetro másico MFC |
| Canales de gas | 3 canales (personalizables) |
| Caudal (Ejemplo) |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCCM CH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 (personalizable) |
| Linealidad | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0,2% E.F. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de funcionamiento | 0,45MPa |
| Controlador del caudalímetro | Controlador de perilla digital/Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío rotativa de paletas |
| Caudal de la bomba | 4L/S |
| Boca de aspiración de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro de silicona Pirani/Resistance |
| Presión nominal de vacío | 10Pa |
| Unidad de alto vacío (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba rotativa de paletas+Bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4L/S+110L/S |
| Boca de aspiración de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-5Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores pueden personalizarse | |
Configuraciones de sistemas CVD personalizables
En KINTEK, nos especializamos en adaptar nuestros sistemas de hornos CVD a sus necesidades precisas de investigación o producción. Explore algunos ejemplos de nuestras configuraciones versátiles y personalizables:
Principio de funcionamiento
La deposición química en fase vapor (CVD) es una técnica versátil de deposición de películas finas en la que se forma un material sólido sobre un sustrato calentado a partir de reactivos gaseosos. En un horno tubular CVD KINTEK, el sustrato se coloca dentro de un tubo de gran pureza (normalmente de cuarzo o alúmina) y se calienta a una temperatura controlada con precisión. Una mezcla cuidadosamente dosificada de gases precursores se introduce en el tubo a través de un sistema de control de flujo másico. Estos gases reaccionan o se descomponen en la superficie caliente del sustrato o cerca de ella, lo que da lugar a la deposición de la película fina deseada. Los aspectos operativos clave incluyen:
- Entorno de alta temperatura: El horno crea una zona estable de alta temperatura necesaria para las reacciones químicas.
- Flujo de gas controlado: Los controladores de flujo másico (MFC) garantizan un suministro preciso y repetible de gases precursores y portadores.
- Vacío o atmósfera controlada: Un sistema de vacío elimina los contaminantes y subproductos no deseados, o se puede mantener una atmósfera controlada (inerte o reactiva) para influir en la química de deposición. Algunos sistemas pueden emplear descargas luminiscentes de radiofrecuencia (RF) u otras técnicas de mejora del plasma para conseguir una deposición a baja temperatura o mayores velocidades de deposición.
- Crecimiento uniforme de la película: El diseño cuidadoso de las zonas de calentamiento y de la dinámica del flujo de gas favorece la uniformidad del espesor y la composición de la película en todo el sustrato.
Este proceso se utiliza ampliamente en la fabricación de semiconductores, células solares, recubrimientos protectores, nanomateriales y otros dispositivos electrónicos y ópticos avanzados.
Amplia gama de aplicaciones
Los hornos tubulares CVD multizona KINTEK son herramientas indispensables en diversos sectores industriales y de investigación:
- Síntesis de nanomateriales: Ideal para el crecimiento de nanohilos, nanotubos (por ejemplo, nanotubos de carbono) y la preparación de nanofilms para el desarrollo de materiales avanzados.
- Tecnologías avanzadas de recubrimiento: Ampliamente utilizadas para depositar películas metálicas, películas cerámicas (óxidos, nitruros, carburos) y películas compuestas para mejorar propiedades superficiales como la dureza, la resistencia a la corrosión o la conductividad.
- Semiconductores y electrónica: Esencial para depositar capas aislantes, semiconductoras y conductoras en la fabricación de circuitos integrados, sensores y otros componentes electrónicos.
- Procesado de materiales para baterías: Adecuado para el secado, la sinterización y la modificación de superficies de materiales de baterías para dispositivos de almacenamiento de energía de alto rendimiento.
- Sinterización y recocido a alta temperatura: Empleado para procesos de sinterización en atmósfera a alta temperatura, reducción en atmósfera y recocido para densificación de materiales y refinamiento de propiedades.
- Recubrimiento en vacío y atmósfera: Las capacidades de alto vacío lo hacen perfecto para aplicaciones en las que la pureza y la calidad del revestimiento son primordiales.
- Investigación y desarrollo: Ampliamente utilizado en universidades e institutos de investigación científica para estudios fundamentales de ciencia de materiales, incluyendo experimentos de CVD/CVI (Infiltración Química de Vapor).
- Procesos mejorados con plasma: Puede adaptarse para CVD mejorado por plasma (PECVD), limpieza por plasma y grabado, ampliando su versatilidad funcional.
Paquete estándar (ejemplo de KT-CTF16-60)
| No. | Descripción | Cantidad |
|---|---|---|
| 1 | Cuerpo del horno con control de temperatura | 1 |
| 2 | Tubo de alúmina de alta pureza o cuarzo (según pedido) | 1 |
| 3 | Bridas de sellado al vacío con puertos | 2 juegos |
| 4 | Bloques/Tapones Térmicos de Tubo | 2 |
| 5 | Tubo Bloque Térmico Gancho | 1 |
| 6 | Guantes resistentes al calor | 1 par |
| 7 | Unidad de control de gas precisa (MFC según pedido) | 1 juego |
| 8 | Unidad de vacío (bomba y manómetro según pedido) | 1 juego |
| 9 | Manual de instrucciones | 1 |
Configuraciones opcionales y personalizaciones
Mejore su sistema CVD con una serie de características opcionales para satisfacer necesidades experimentales específicas:
- Sistemas de detección y monitorización de gases en el tubo (por ejemplo, para H2, O2, etc.).
- Módulos independientes de control de la temperatura del horno y de registro de datos.
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos.
- Diversas opciones de control del caudal de alimentación de gas, incluidos diferentes rangos para caudalímetros másicos y caudalímetros de flotador.
- Controladores de temperatura de pantalla táctil avanzados con funciones versátiles y de fácil manejo (por ejemplo, rampas programables, registro de datos).
- Configuraciones mejoradas de estaciones de bombeo de alto vacío, que incorporan opciones como bombas de vacío de paletas, bombas moleculares o bombas de difusión.
- Sistemas de suministro de precursores líquidos/sólidos (por ejemplo, burbujeadores, vaporizadores).
- Sistemas de reducción de gases de escape.
Asóciese con KINTEK para sus soluciones CVD
¿Está preparado para mejorar sus procesos de investigación o industriales con un horno tubular CVD de última generación? El equipo de KINTEK está dedicado a proporcionarle un sistema que se adapte perfectamente a los requisitos de su aplicación, respaldado por nuestra experiencia en tecnología de alta temperatura y personalización.
Póngase en contacto con nosotros para hablar de sus necesidades específicas, explorar las opciones de personalización o solicitar un presupuesto detallado. Permítanos ayudarle a conseguir resultados inigualables en sus esfuerzos de deposición de materiales.
FAQ
¿Qué Es Un Horno Tubular Y Cómo Funciona?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina CVD?
¿Qué Es Un Horno Tubular Vertical?
¿Qué Es Un Horno De Inducción De Vacío?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Un Horno De Vacío?
¿Para Qué Se Utiliza Una Máquina PECVD?
¿Para Qué Se Utiliza Un Horno De Atmósfera?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos De Inducción De Vacío?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno De Vacío?
¿Cuáles Son Los Principales Tipos De Máquinas PECVD?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno De Atmósfera?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cómo Funciona Un Horno De Inducción Al Vacío?
¿Cómo Funciona Un Horno De Vacío?
¿Cómo Funciona Una Máquina De PECVD?
¿Cómo Funciona Un Horno De Atmósfera?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Existen?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Características Clave De Una Máquina CVD?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno De Inducción Al Vacío?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno De Vacío?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Una Máquina PECVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno De Atmósfera?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Multizona Existen?
¿Qué Tipos De Máquinas CVD Hay Disponibles?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Verticales Hay Disponibles?
¿Qué Tipos De Hornos De Inducción Al Vacío Existen?
¿Qué Tipos De Materiales Pueden Procesarse En Un Horno De Vacío?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina PECVD?
¿Qué Tipos De Gases Pueden Utilizarse En Un Horno De Atmósfera?
¿Pueden Funcionar Los Hornos Tubulares En Distintas Atmósferas?
¿Por Qué Elegir Un Horno Tubular Vertical En Lugar De Uno Horizontal?
¿Por Qué Es Importante El Control De La Temperatura En Los Hornos De Inducción De Vacío?
¿Cuál Es La Diferencia Entre Los Hornos De Vacío De Pared Caliente Y De Pared Fría?
¿Qué Materiales Pueden Depositarse Con Una Máquina De PECVD?
¿De Qué Dispositivos De Seguridad Disponen Los Hornos De Atmósfera Avanzados?
¿Qué Hace Especiales A Los Hornos Tubulares KINTEK?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Qué Materiales Pueden Procesarse En Un Horno De Inducción Al Vacío?
¿Pueden Personalizarse Los Hornos De Vacío Para Aplicaciones Específicas?
¿Por Qué Se Prefiere El PECVD A Otros Métodos De Deposición?
¿Se Pueden Personalizar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Cómo Beneficia El Entorno De Vacío Al Procesamiento De Materiales?
4.9
out of
5
Incredible precision and durability! This CVD furnace exceeded all expectations. Worth every penny!
4.8
out of
5
Fast delivery and top-notch quality. The machine works flawlessly—highly recommend!
4.7
out of
5
A game-changer for our lab! The versatility and performance are unmatched.
4.9
out of
5
Exceptional craftsmanship and advanced technology. Perfect for high-precision tasks.
4.8
out of
5
Superb value for money. The machine is robust and delivers consistent results.
4.7
out of
5
Impressive speed and efficiency. This CVD furnace is a must-have for any serious researcher.
4.9
out of
5
Outstanding performance! The custom features make it stand out from the competition.
4.8
out of
5
Reliable and high-quality. The machine arrived sooner than expected—very pleased!
4.7
out of
5
Perfect for our research needs. The CVD furnace is both powerful and user-friendly.
4.9
out of
5
Top-tier technology at an affordable price. Couldn’t be happier with this purchase!
4.8
out of
5
The machine is a beast! Handles everything we throw at it with ease.
4.7
out of
5
Fantastic investment. The CVD furnace has significantly boosted our productivity.
4.9
out of
5
Absolutely love it! The build quality and performance are second to none.
4.8
out of
5
Quick setup and flawless operation. This machine is a dream come true for our team.
4.7
out of
5
Highly efficient and reliable. The CVD furnace has transformed our workflow.
4.9
out of
5
Exceptional value and performance. This machine is a true workhorse.
4.8
out of
5
The best CVD furnace we’ve used. Delivers consistent, high-quality results every time.
4.7
out of
5
Impressive build and advanced features. A fantastic addition to our lab.
4.9
out of
5
Worth every cent! The machine is durable, efficient, and incredibly versatile.
4.8
out of
5
Fast shipping and excellent customer service. The CVD furnace is a masterpiece!
SOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD
Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío - Horno de laboratorio de 1200°C de alta precisión para la investigación de materiales avanzados. Soluciones personalizables disponibles.
Los hornos tubulares CVD multizona de KINTEK ofrecen un control preciso de la temperatura para la deposición avanzada de películas finas. Ideales para investigación y producción, personalizables según las necesidades de su laboratorio.
Horno tubular rotativo multizona de calentamiento dividido Horno tubular rotativo
Horno tubular rotativo multizona de calentamiento dividido de precisión para el procesamiento de materiales a alta temperatura, con inclinación ajustable, rotación de 360° y zonas de calentamiento personalizables. Ideal para laboratorios.
Horno tubular rotativo de vacío para laboratorio Horno tubular rotativo
Horno rotativo de laboratorio KINTEK: Calentamiento de precisión para calcinación, secado y sinterización. Soluciones personalizables con vacío y atmósfera controlada. ¡Mejore la investigación ahora!
Horno tubular de cuarzo de laboratorio Horno tubular de calentamiento RTP
El horno tubular de calentamiento rápido RTP de KINTEK ofrece un control preciso de la temperatura, un calentamiento rápido de hasta 100 °C/s y opciones versátiles de atmósfera para aplicaciones avanzadas de laboratorio.
Horno tubular de vacío de laboratorio de alta presión Horno tubular de cuarzo
Horno tubular de alta presión KINTEK: Calentamiento de precisión hasta 1100°C con control de presión de 15Mpa. Ideal para sinterización, crecimiento de cristales e investigación de laboratorio. Soluciones personalizables disponibles.
Horno de prensado en caliente al vacío Horno tubular de prensado al vacío calentado
Descubra el avanzado Horno de Prensado en Caliente de Tubo al Vacío de KINTEK para sinterizado preciso a alta temperatura, prensado en caliente y unión de materiales. Soluciones personalizables para laboratorios.
1700℃ Horno tubular de laboratorio de alta temperatura con tubo de cuarzo o alúmina
Horno tubular KINTEK con tubo de alúmina: Calentamiento de precisión hasta 1700°C para síntesis de materiales, CVD y sinterización. Compacto, personalizable y preparado para vacío. ¡Explórelo ahora!
Horno tubular PECVD deslizante con gasificador líquido Máquina PECVD
Horno tubular KINTEK Slide PECVD: deposición de película fina de precisión con plasma RF, ciclos térmicos rápidos y control de gas personalizable. Ideal para semiconductores y células solares.
Máquina de horno tubular inclinado de deposición química mejorada por plasma PECVD
La máquina de recubrimiento PECVD de KINTEK proporciona películas finas de precisión a bajas temperaturas para LED, células solares y MEMS. Soluciones personalizables de alto rendimiento.
1200℃ Horno de tubo partido Horno de tubo de cuarzo de laboratorio con tubo de cuarzo
Descubra el horno de tubo partido 1200℃ de KINTEK con tubo de cuarzo para aplicaciones precisas de laboratorio a alta temperatura. Personalizable, duradero y eficiente. ¡Consiga el suyo ahora!
Máquina de horno tubular inclinado de deposición química mejorada por plasma PECVD
Horno tubular PECVD avanzado para la deposición precisa de películas finas. Calentamiento uniforme, fuente de plasma RF, control de gas personalizable. Ideal para la investigación de semiconductores.
Horno tubular rotativo de trabajo continuo sellado al vacío Horno tubular rotativo
Horno tubular rotativo de precisión para procesamiento continuo en vacío. Ideal para calcinación, sinterización y tratamiento térmico. Personalizable hasta 1600℃.
Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia
Sistema PECVD RF KINTEK: Deposición de película fina de precisión para semiconductores, óptica y MEMS. Proceso automatizado a baja temperatura con película de calidad superior. Soluciones personalizadas disponibles.
Sistema de máquina MPCVD con resonador cilíndrico para el crecimiento de diamantes en laboratorio
Sistemas MPCVD KINTEK: Cultive películas de diamante de alta calidad con precisión. Fiables, eficientes energéticamente y fáciles de usar para principiantes. Asistencia de expertos disponible.
Horno de sinterización por plasma SPS
Descubra el avanzado horno de sinterización por plasma de chispa (SPS) de KINTEK para el procesamiento rápido y preciso de materiales. Soluciones personalizables para investigación y producción.
915MHz MPCVD Diamante Máquina de microondas Plasma Sistema de Deposición Química en Vapor Reactor
Máquina de diamante MPCVD KINTEK: Síntesis de diamante de alta calidad con tecnología MPCVD avanzada. Crecimiento más rápido, pureza superior, opciones personalizables. ¡Aumente la producción ahora!
Fuelles de vacío de alto rendimiento para una conexión eficaz y un vacío estable en los sistemas
Ventana de observación de ultra alto vacío KF con vidrio de borosilicato de alta calidad para una visión clara en entornos exigentes de 10^-9 Torr. Brida duradera de acero inoxidable 304.
Sistema de máquina HFCVD Equipo para el recubrimiento con nano diamante de matrices de embutición
El sistema HFCVD de KINTEK proporciona revestimientos de nanodiamante de alta calidad para matrices de trefilado, mejorando la durabilidad con una dureza y resistencia al desgaste superiores. ¡Explore ahora las soluciones de precisión!