MPCVD
Sistema de máquina HFCVD Equipo para el recubrimiento con nano diamante de matrices de embutición
Número de artículo : HFCVD-100
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Grado máximo de vacío
- 2,0×10-1Pa
- Espesor del revestimiento de diamante
- 10 ~ 15mm
- Vida útil
- 6-10 veces mayor
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Vista general: Sistema HFCVD para recubrimientos de diamante
Descubra el avanzado sistema de deposición química en fase vapor de filamento caliente (HFCVD) de KINTEK, diseñado por expertos para producir recubrimientos compuestos de nano-diamante de alta calidad. Este sistema es ideal para aplicaciones que exigen una dureza superior, resistencia al desgaste y baja fricción, como la mejora del rendimiento y la vida útil de las matrices de trefilado.
Especificaciones técnicas
| Composición técnica HFCVD | ||
| Parámetros técnicos | Composición del equipo | Configuración del sistema |
| Jarra de campana Dia. 500 mm, altura 550 mm, cámara de acero inoxidable SUS304; aislamiento interior de piel de acero inoxidable, la altura de elevación es de 350 mm; | Un conjunto de cuerpo principal de cámara de vacío (estructura de refrigeración por agua con camisa) | Cuerpo principal de la cámara de vacío (campana de vidrio); La cavidad está hecha de acero inoxidable 304 de alta calidad; Campana de vidrio vertical: la camisa de refrigeración por agua está instalada en la periferia general de la campana de vidrio. La pared interior de la campana está aislada con una capa de acero inoxidable y la campana está fijada lateralmente. Posicionamiento preciso y estable ; Ventana de observación: dispuesta horizontalmente en el centro de la cámara de vacío Ventana de observación de 200mm, refrigeración por agua, deflector, configuración lateral y superior Ángulo de bisel de 45º, ventana de observación de 50º (observar el mismo punto que la ventana de observación horizontal, y la plataforma de soporte de la muestra); las dos ventanas de observación mantienen la posición y el tamaño existentes.El fondo de la campana de vidrio es 20mm más alto que el plano del banco , refrigeración establecida; los orificios reservados en el plano, como válvulas grandes, válvulas de liberación de aire, medición de presión de aire, válvulas de derivación, etc., se sellan con malla metálica y se reservan para instalar electrodos Interfaz; |
| Mesa del equipo: L1550* W900*H1100mm | Un juego de dispositivo de mesa de muestras de arrastre (adopta accionamiento de doble eje ) | Dispositivo portamuestras: Soporte de muestra de acero inoxidable (refrigeración por agua de soldadura ) Dispositivo de 6 posiciones; se puede ajustar por separado, sólo ajuste hacia arriba y hacia abajo, el rango de ajuste hacia arriba y hacia abajo es de 25mm, y se requiere que la sacudida izquierda y derecha sea inferior al 3% al subir y bajar ( es decir, la sacudida izquierda y derecha de subir o bajar 1mm es inferior a 0,03mm ) , y la etapa de muestra no gira al subir o bajar. |
| Grado de vacío final: 2.0×10-1Pa ; | Un conjunto de sistema de vacío | Sistema de vacío: Configuración del sistema de vacío: bomba mecánica + válvula de vacío + válvula de purga física + tubo de escape principal + bypass; (proporcionado por el proveedor de la bomba de vacío), la válvula de vacío utiliza una válvula neumática; Medición del sistema de vacío: Presión de la membrana. |
| Tasa de aumento de presión : ≤5Pa/h; | Sistema de suministro de gas del caudalímetro másico de dos canales | Sistema de suministro de gas: El medidor de flujo másico está configurado por la Parte B, entrada de aire de dos vías, la tasa de flujo es controlada por el medidor de flujo másico, después de la reunión de dos vías, entra en la cámara de vacío desde la parte superior , y el interior de la tubería de entrada de aire es de 50 mm |
| Movimiento de la mesa de muestras: el rango de subida y bajada es de ± 25m; se requiere agitar la relación izquierda y derecha cuando se sube y baja en ± 3%; | Un juego de dispositivo de electrodos (2 canales) | Dispositivo de electrodos: La dirección de longitud de los cuatro orificios de electrodos es paralela a la dirección de longitud de la plataforma de soporte, y la dirección de longitud está orientada hacia la ventana de observación principal con un diámetro de 200mm . |
| Presión de trabajo: utilizar manómetro de membrana, rango de medición: 0 ~ 10kPa; constante de trabajo a 1kPa ~5kPa,el valor de presión constante cambia más o menos 0,1kPa; | Un conjunto de sistema de agua de refrigeración | Sistema de agua de refrigeración: La campana de vidrio, los electrodos y la placa inferior están equipados con tuberías de refrigeración de agua circulante, y están equipados con dispositivo de alarma de flujo de agua insuficiente 3.7: sistema de control. Los interruptores, los instrumentos y la fuente de alimentación para la elevación de la campana, la deflación, la bomba de vacío, la vía principal, la derivación, la alarma, el flujo, la presión del aire, etc., están situados en el lateral del soporte, y se controlan mediante una pantalla táctil de 14 pulgadas; el equipo dispone de un programa de control totalmente automático sin intervención manual, y puede almacenar datos y llamar a datos |
| Posición de la entrada de aire: la entrada de aire se encuentra en la parte superior de la campana de vidrio, y la posición del puerto de escape se encuentra directamente debajo del soporte de la muestra; | Sistema de control | |
| Sistema de control: Controlador PLC + pantalla táctil de 10 pulgadas | Sistema de control automático de la presión (válvula de control de la presión original importada de Alemania) | |
| Sistema de inflado: medidor de flujo másico de 2 canales, rango de flujo: 0-2000sccm y 0-200sccm; Válvula neumática | Resistencia Vacuómetro | |
| 3.1.10 Bomba de vacío: Bomba de vacío D16C | ||
Comprensión de la deposición de diamante HFCVD
El proceso de deposición química en fase vapor con filamento caliente (HFCVD) para crear películas de diamante se basa en el siguiente principio de funcionamiento: una atmósfera que contiene carbono se mezcla con hidrógeno sobresaturado, se activa (normalmente mediante filamentos calientes) y, a continuación, se hace pasar sobre un sustrato. En condiciones controladas con precisión, como la composición de la atmósfera, la energía de activación, la temperatura del sustrato y la distancia entre el sustrato y la fuente de activación, se deposita una película de diamante. En general, se entiende que la nucleación y el crecimiento de las películas de diamante se producen en tres etapas:
- Activación y formación de la capa de transición: El gas que contiene carbono e hidrógeno se descompone a cierta temperatura en carbono, átomos de hidrógeno y otros radicales libres activos. Éstos se combinan con el sustrato para formar primero una capa de transición de carburo muy fina.
- Nucleación del diamante: Los átomos de carbono depositan núcleos de diamante en la capa de transición formada sobre el sustrato.
- Crecimiento de la película: Los núcleos de cristal de diamante formados crecen hasta convertirse en microgranos de diamante en un entorno adecuado y, a continuación, continúan creciendo hasta formar una película cohesiva de diamante.
Principales ventajas de nuestro sistema HFCVD y recubrimientos de nanodiamante
El molde de embutición de revestimiento compuesto de nanodiamante, que utiliza carburo cementado (WC-Co) como sustrato, emplea el método de fase de vapor químico (CVD) para depositar un revestimiento compuesto de diamante y nanodiamante convencional en la superficie del orificio interior del molde. El resultado es un producto totalmente nuevo después de esmerilar y pulir el recubrimiento. El recubrimiento compuesto de nanodiamante no sólo presenta la fuerte adherencia y resistencia al desgaste características de los recubrimientos de diamante convencionales, sino que también ofrece las ventajas de una superficie plana y lisa, un coeficiente de fricción pequeño y la facilidad de esmerilado y pulido inherentes a los recubrimientos de nanodiamante. Esta tecnología resuelve los retos técnicos relacionados con la adherencia del recubrimiento y supera el cuello de botella de las superficies de recubrimiento de diamante difíciles de pulir, eliminando los obstáculos a la industrialización de las películas de diamante CVD.
|
Indicadores técnicos |
Matriz de embutición tradicional |
Matriz de embutición recubierta de nanodiamante |
|
Superficie de recubrimiento Tamaño del grano |
ninguno |
20~80nm |
|
Contenido de diamante en el recubrimiento |
ninguno |
≥99% |
|
Espesor del recubrimiento de diamante |
ninguno |
10 ~ 15mm |
|
Rugosidad de la superficie |
Ra≤0,1mm |
Clase A Ra≤0.1mm Clase B: Ra≤0,05mm |
|
Gama de diámetros del orificio interior de la matriz de embutición de revestimiento |
Ф3 ~ Ф70mm |
Ф3 ~ Ф70mm |
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Vida útil |
La vida útil depende de las condiciones de trabajo |
De 6 a 10 veces más |
|
Coeficiente de fricción de la superficie |
0.8 |
0.1 |
Ventajas de diseño específicas del sistema HFCVD de KINTEK:
- Plataforma de elevación de moldes de precisión: Para el paralelismo y la rectitud de la plataforma de elevación del molde, nuestra empresa ha fabricado herramientas especiales. El método de elevación biaxial permite subir y bajar los dos extremos aproximadamente ±0,02 mm (2 hilos), lo que permite la creación de moldes más pequeños y de alta precisión.
- Integración optimizada de herramientas: Nuestra empresa integra la ubicación de cada componente en el utillaje, centrándose en el utillaje y el proceso del molde. Esto garantiza un buen utillaje y sujeción, un funcionamiento estable y fiable, alta precisión y facilidad de uso.
- Control avanzado de la presión: Mientras que otros fabricantes pueden utilizar válvulas deflectoras que no pueden ajustarse linealmente (la separación aumenta rápidamente al abrirse), nuestra empresa diseña el sistema con una válvula de cierre basada en principios de control de presión estable. Esto permite que el espacio de cierre se ajuste linealmente, logrando un control estable de la presión.
- Sistema de control totalmente automático: El sistema controla automáticamente la presión según algoritmos informáticos, reduciendo la aleatoriedad del operario y mejorando la confidencialidad del proceso. Esto ahorra mano de obra y garantiza una consistencia más ideal en la calidad del molde para las mismas especificaciones.
- Funcionamiento estable de la campana: Para la estabilidad de la campana de elevación, nuestra empresa utiliza cojinetes autolubricantes, que hacen que la rotación sea más flexible y libre de atascos. El sistema está diseñado para adaptarse a los requisitos específicos del proceso de recubrimiento de diamante de cada cliente.
Su socio en soluciones avanzadas de materiales
Aprovechando su excepcional I+D y fabricación propia, KINTEK proporciona a diversos laboratorios soluciones avanzadas de hornos de alta temperatura. Nuestra línea de productos, que incluye hornos de mufla, tubulares y rotativos, hornos de vacío y atmosféricos y sistemas CVD/PECVD/MPCVD como esta unidad HFCVD, se complementa con nuestra gran capacidad de personalización para satisfacer con precisión requisitos experimentales únicos.
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Obtenga más información sobre cómo nuestro sistema HFCVD puede adaptarse a sus necesidades específicas de investigación o producción. Nuestros expertos están preparados para discutir sus requisitos y ayudarle a encontrar la solución óptima.
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