Horno CVD y PECVD
Máquina de Horno de Tubo PECVD de Plasma Rotatorio Inclinado
Número de artículo : KT-PED
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura de calentamiento
- ≤800℃
- Grado de vacío
- ≤5×10-5Pa
- Potencia de salida
- 500W—1000W
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Máquina de Recubrimiento por Deposición Química de Vapor Mejorada con Plasma (PECVD)


Sistemas PECVD Avanzados de KINTEK: Recubrimiento de Precisión, Adaptado a Sus Necesidades
Aprovechando una excepcional I+D y fabricación interna, KINTEK ofrece sistemas de vanguardia de Deposición Química de Vapor Mejorada con Plasma (PECVD) diseñados para diversos laboratorios y aplicaciones industriales. La PECVD es una técnica sofisticada de deposición de películas delgadas al vacío que emplea plasma para activar gases precursores. Esto permite la creación de recubrimientos uniformes y de alta calidad a temperaturas significativamente más bajas que la Deposición Química de Vapor (CVD) tradicional, ampliando las posibilidades para sustratos sensibles al calor (como plásticos) y una diversa gama de materiales de recubrimiento (incluyendo dieléctricos, semiconductores y aislantes).
Nuestras máquinas PECVD son una oferta clave dentro de la suite completa de soluciones avanzadas de hornos de alta temperatura de KINTEK, que también incluye Hornos de Mufla, de Tubo, Rotatorios, de Vacío y Atmosféricos, y otros Sistemas CVD/MPCVD. Nos enorgullecemos de nuestra sólida capacidad de personalización profunda, garantizando que su sistema PECVD sea diseñado con precisión para satisfacer sus requisitos únicos de experimentación y producción.
Características Clave
Las Máquinas de Recubrimiento por Deposición Química de Vapor Mejorada con Plasma (PECVD) de KINTEK ofrecen una gama de características diseñadas para un rendimiento superior y versatilidad:
- Deposición a Baja Temperatura: Permite la formación de películas de alta calidad sobre sustratos delicados o de bajo punto de fusión sin daño térmico, ampliando significativamente la compatibilidad de materiales.
- Altas Tasas de Deposición: Logra un crecimiento rápido de la película, maximizando el rendimiento, reduciendo el tiempo de procesamiento y aumentando la productividad general.
- Películas Uniformes y Resistentes a Grietas: Produce recubrimientos con una consistencia excepcional en espesor y propiedades a través del sustrato, minimizando defectos como el agrietamiento para resultados confiables y duraderos.
- Excelente Adhesión al Sustrato: Garantiza una unión fuerte entre la película depositada y el material del sustrato, conduciendo a un rendimiento duradero y previniendo la delaminación.
- Capacidades de Recubrimiento Versátiles: Soporta la deposición de una amplia gama de materiales, como SiO2, SiNx, SiOxNy y más, atendiendo a diversas necesidades de aplicación.
- Recubrimiento Conforme en Geometrías Complejas: Capaz de recubrir uniformemente sustratos con formas y topografías intrincadas, asegurando una cobertura integral y un rendimiento óptimo.
- Diseño Amigable para el Usuario: Diseñado para bajos requisitos de mantenimiento e instalación sencilla, minimizando el tiempo de inactividad y simplificando la integración en su flujo de trabajo.
Especificaciones Técnicas
| Portamuestras | Tamaño | 1-6 pulgadas |
| Velocidad de rotación | 0-20rpm ajustable | |
| Temperatura de calentamiento | ≤800℃ | |
| Precisión de control | ±0.5℃ Controlador PID SHIMADEN | |
| Purga de gas | Medidor de flujo | CONTROLADOR DE MEDIDOR DE FLUJO MÁSICO (MFC) |
| Canales | 4 canales | |
| Método de enfriamiento | Enfriamiento por agua circulante | |
| Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Φ500mm X 550mm |
| Puerto de observación | Puerto de vista completa con pantalla | |
| Material de la cámara | Acero inoxidable 316 | |
| Tipo de puerta | Puerta de apertura frontal | |
| Material de la tapa | Acero inoxidable 304 | |
| Puerto de la bomba de vacío | Brida CF200 | |
| Puerto de entrada de gas | Conector VCR φ6 | |
| Potencia de plasma | Potencia de fuente | Potencia DC o RF |
| Modo de acoplamiento | Acoplamiento inductivo o capacitivo de placas | |
| Potencia de salida | 500W—1000W | |
| Potencia de polarización | 500v | |
| Bomba de vacío | Bomba previa | Bomba de vacío de paletas 15L/S |
| Puerto de bomba turbomolecular | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| Puerto de alivio | KF25 | |
| Velocidad de bombeo | Bomba de paletas: 15L/s, Bomba turbomolecular: 1200l/s o 1600l/s | |
| Grado de vacío | ≤5×10-5Pa | |
| Sensor de vacío | Manómetro de vacío de ionización/resistencia/manómetro de película | |
| Sistema | Suministro eléctrico | AC 220V /380 50Hz |
| Potencia nominal | 5kW | |
| Dimensiones | 900mm X 820mm X870mm | |
| Peso | 200kg |
Aplicaciones
Las máquinas de recubrimiento por Deposición Química de Vapor Mejorada con Plasma (PECVD) de KINTEK ofrecen una solución versátil para una amplia gama de industrias y aplicaciones de vanguardia:
- Iluminación LED: Deposición de películas dieléctricas y semiconductoras de alta calidad cruciales para diodos emisores de luz (LED) eficientes y duraderos.
- Semiconductores de Potencia: Formación de capas aislantes, óxidos de puerta y otros componentes críticos de película en dispositivos semiconductores de potencia.
- MEMS (Sistemas Microelectromecánicos): Fabricación de películas delgadas precisas para sensores, actuadores y otros dispositivos a microescala.
- Recubrimientos Ópticos: Deposición de recubrimientos antirreflectantes, filtros ópticos, capas protectoras y otros componentes ópticos funcionales.
- Células Solares de Película Delgada: Producción de películas delgadas de silicio amorfo y microcristalino, así como otros materiales semiconductores, para dispositivos fotovoltaicos.
- Modificación de Superficies: Mejora de las propiedades superficiales de los materiales, incluyendo mayor resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste, dureza y biocompatibilidad.
- Nanotecnología: Síntesis de nanomateriales avanzados, como nanopartículas, nanohilos y películas ultrafinas para aplicaciones novedosas.
¿Por Qué Asociarse con KINTEK para Tecnología PECVD?
Elegir KINTEK para sus necesidades PECVD significa invertir en calidad, confiabilidad y soluciones a medida:
- Personalización Profunda: Nos especializamos en configurar sistemas PECVD según sus especificaciones exactas, garantizando un rendimiento óptimo para sus aplicaciones únicas y objetivos de investigación.
- I+D y Fabricación Avanzadas: Nuestra experiencia interna impulsa la innovación, permitiéndonos ofrecer tecnología PECVD de última generación.
- Construcción de Alta Calidad: Nuestros sistemas presentan diseños rígidos construidos con materiales premium como acero inoxidable para estabilidad, durabilidad y una vida útil prolongada.
- Rendimiento Confiable: Diseñados para resultados consistentes, nuestras máquinas PECVD producen películas delgadas uniformes y de alta calidad con excelente adhesión.
- Soporte Integral: Desde una instalación fácil hasta bajos requisitos de mantenimiento, nos aseguramos de que nuestros sistemas sean fáciles de usar y respaldados por un servicio al cliente receptivo.
- Versatilidad: Nuestras máquinas pueden depositar una amplia gama de materiales, haciéndolas adecuadas para diversos procesos de investigación e industriales.
Principio de Funcionamiento
La Deposición Química de Vapor Mejorada con Plasma (PECVD) es un proceso que utiliza plasma (un gas ionizado) para estimular y mejorar las reacciones químicas durante el proceso de deposición de películas delgadas. A diferencia de la CVD convencional que depende únicamente de altas temperaturas para impulsar las reacciones, la PECVD emplea plasma de alta energía. Este plasma energiza los gases precursores, conduciendo a la formación de especies reactivas a temperaturas de sustrato significativamente más bajas. Estas especies reactivas luego se adsorben en la superficie del sustrato y sufren reacciones químicas para formar una película delgada sólida. Este método permite la deposición de varias películas de alta calidad, como SiO2, SiNx y SiOxNy, y es particularmente efectivo para crear películas delgadas de silicio amorfo o microcristalino utilizadas en células solares. Las temperaturas de procesamiento más bajas minimizan el estrés térmico en los sustratos, reducen los poros y previenen el agrietamiento, haciendo que la PECVD sea ideal para una gama más amplia de materiales y aplicaciones.
Personalice Su Solución PECVD con KINTEK
¿Listo para elevar sus capacidades de deposición de películas delgadas? Los expertos de KINTEK están disponibles para discutir sus necesidades y desafíos específicos del proyecto. Podemos ayudarle a configurar un sistema de Deposición Química de Vapor Mejorada con Plasma perfectamente adaptado a sus requisitos experimentales o de producción. Benefíciese de nuestra experiencia en personalización profunda y tecnología avanzada para lograr resultados superiores.
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Confiado por Líderes de la Industria
FAQ
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Un Horno Tubular Rotativo?
¿Qué Es Un Horno Tubular Y Cómo Funciona?
¿Cuál Es El Principio De Un Horno Rotativo?
¿Para Qué Se Utiliza Un Horno Rotativo?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones Habituales De Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Es Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Tubular Rotatorio?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Rotativo?
¿Cuáles Son Los Principales Tipos De Hornos Rotativos Disponibles?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Tubular Partido?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Rotativo?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Rotativo?
¿Cómo Funciona Un Horno Rotativo?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Multizona?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Partido?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Rotatorio?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Existen?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones Habituales De Un Horno Rotatorio?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Partido?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Vertical?
¿Qué Temperatura Puede Alcanzar Un Horno Tubular Rotativo?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares?
¿Cómo Trata Un Horno Rotativo Los Distintos Materiales?
¿Qué Características De Seguridad Incluyen Los Hornos Rotativos?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Multizona Existen?
¿Qué Temperatura Puede Alcanzar Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Verticales Hay Disponibles?
¿Qué Tipos De Materiales Pueden Procesarse En Un Horno Tubular Rotativo?
¿Pueden Funcionar Los Hornos Tubulares En Distintas Atmósferas?
¿Pueden Personalizarse Los Hornos Rotativos Para Aplicaciones Específicas?
¿Por Qué Es Beneficioso El Diseño Dividido En Un Horno Tubular?
¿Por Qué Elegir Un Horno Tubular Vertical En Lugar De Uno Horizontal?
¿Qué Hace Especiales A Los Hornos Tubulares KINTEK?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Se Pueden Personalizar Los Hornos Tubulares Verticales?
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Máquina de Horno de Tubo PECVD de Plasma Rotatorio Inclinado
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