Horno CVD y PECVD
Horno de Tubo PECVD Deslizante con Máquina PECVD de Gasificador de Líquidos
Número de artículo : KT-PE12
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máx.
- 1200℃
- Potencia de salida de plasma de RF
- 5-500W
- Presión de vacío nominal
- 10Pa~6x10-4Pa
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Desbloquee la Precisión en la Deposición de Películas Delgadas
El horno de tubo PECVD deslizante KINTEK con gasificador de líquidos es un sistema de vanguardia diseñado para una deposición de películas delgadas versátil y de alto rendimiento. Diseñado para satisfacer las rigurosas demandas de la investigación y producción modernas, combina una fuente de plasma RF de 500W, un innovador horno deslizante para ciclos térmicos rápidos, control preciso del flujo de gas y una robusta estación de vacío. Ya sea para electrónica, semiconductores, óptica o ciencia de materiales avanzados, este sistema ofrece resultados excepcionales y fiabilidad. En KINTEK, aprovechamos nuestra excepcional experiencia en I+D y fabricación propia para proporcionar soluciones de hornos avanzadas como esta, y ofrecemos una sólida personalización profunda para satisfacer con precisión sus requisitos experimentales únicos.
Características Clave y Beneficios
El horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos ofrece numerosos beneficios para mejorar su investigación y producción:
- Generación de Energía Mejorada: La innovadora estructura de barquilla de grafito mejora significativamente la salida de potencia de las obleas de células solares.
- Calidad de Célula Uniforme: Elimina eficazmente las diferencias de color en las células PECVD tubulares, asegurando resultados consistentes.
- Fuente de Plasma RF Versátil: Cuenta con una fuente de plasma RF de sintonización automática con un amplio rango de potencia de salida (5-500W) para un rendimiento estable y adaptable en diversas aplicaciones.
- Ciclos Térmicos Rápidos: El sistema de deslizamiento de la cámara del horno permite un calentamiento y enfriamiento de alta velocidad, reduciendo significativamente el tiempo de procesamiento. La circulación de aire forzado auxiliar acelera aún más la tasa de enfriamiento.
- Operación Automatizada: El movimiento de deslizamiento automatizado opcional mejora la eficiencia y reduce la intervención manual para flujos de trabajo optimizados.
- Gestión Precisa de la Temperatura: El control de temperatura programable PID garantiza una regulación precisa de la temperatura. Admite control remoto y centralizado para mayor comodidad y flexibilidad operativa.
- Control de Gas Preciso: Los medidores de flujo de masa MFC de alta precisión controlan exactamente los gases de origen, asegurando un suministro de gas estable, consistente y premezclado.
- Sistema de Vacío de Alto Rendimiento: La brida de vacío de acero inoxidable con múltiples puertos de adaptación se ajusta a varias configuraciones de estaciones de bombas de vacío, asegurando un alto grado de vacío y un sellado fiable.
- Interfaz Fácil de Usar: Equipado con el controlador de pantalla táctil TFT de 7 pulgadas CTF Pro, que simplifica la configuración del programa, la operación y permite un análisis fácil de los datos históricos.
Aplicaciones Versátiles
El horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos es ideal para una amplia gama de aplicaciones, que incluyen:
- Deposición Química de Vapor (CVD)
- Deposición Química de Vapor Asistida por Plasma (PECVD)
- Deposición de películas delgadas para diversos materiales
- Fabricación e investigación de células solares
- Procesamiento de semiconductores
- Investigación y desarrollo en nanotecnología
- Estudios de ciencia de materiales avanzados
- Investigación y desarrollo general en atmósferas controladas
Explore Nuestras Configuraciones de Sistema
KINTEK ofrece varias configuraciones de sistemas CVD para satisfacer diversas necesidades experimentales. A continuación se muestran ejemplos de configuraciones disponibles:


Principio de Funcionamiento
El horno de tubo PECVD deslizante con máquina PECVD de gasificador de líquidos emplea plasma de baja temperatura para generar una descarga luminiscente en el cátodo de la cámara de proceso (bandeja de muestras). La descarga luminiscente (u otra fuente de calor) eleva la temperatura de la muestra a un nivel predeterminado. Luego, se introducen cantidades controladas de gas de proceso, que experimentan reacciones químicas y de plasma para formar una película sólida en la superficie de la muestra.
Ventajas de Seguridad Integradas
- Protección contra Sobrecorriente y Sobretemperatura: El horno está equipado con protección contra sobrecorriente y funciones de alarma de sobretemperatura, cortando automáticamente la energía si se exceden los límites.
- Detección de Fallo de Termopar: Una función de detección de termopar integrada detendrá el calentamiento activará una alarma si se detecta un termopar roto o defectuoso, evitando el calentamiento incontrolado.
- Función de Reinicio por Fallo de Alimentación: El controlador PE Pro admite una función de reinicio por fallo de alimentación, lo que permite que el horno reanude su programa de calentamiento automáticamente una vez que se restaura la energía después de un corte.
Especificaciones Técnicas
| Modelo de horno | KT-PE12-60 |
| Temperatura máx. | 1200℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1100℃ |
| Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60mm |
| Longitud de la zona de calentamiento | 1x450mm |
| Material de la cámara | Fibra de alúmina de Japón |
| Elemento calefactor | Bobina de alambre Cr2Al2Mo2 |
| Velocidad de calentamiento | 0-20℃/min |
| Termopar | Tipo K integrado |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Distancia de deslizamiento | 600mm |
| Unidad de Plasma RF | |
| Potencia de salida | 5 -500W ajustable con ± 1% de estabilidad |
| Frecuencia RF | 13.56 MHz ±0.005% de estabilidad |
| Potencia de reflexión | 350W máx. |
| Sintonización | Automática |
| Ruido | |
| Enfriamiento | Enfriamiento por aire. |
| Unidad de control preciso de gas | |
| Medidor de flujo | Medidor de flujo de masa MFC |
| Canales de gas | 4 canales |
| Tasa de flujo | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linealidad | ±0.5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0.2% F.S. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de operación | 0.45MPa |
| Controlador del medidor de flujo | Controlador de perilla digital/Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (Opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío de paletas rotativas |
| Tasa de flujo de la bomba | 4L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Pirani/Vacuómetro de silicio de resistencia |
| Presión de vacío nominal | 10Pa |
| Unidad de alto vacío (Opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de paletas rotativas + Bomba molecular |
| Tasa de flujo de la bomba | 4L/S+110L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-4Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores pueden personalizarse | |
Contenido del Paquete Estándar
| No. | Descripción | Cantidad |
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | Tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico de tubo | 2 |
| 5 | Gancho para bloque térmico de tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | Fuente de plasma RF | 1 |
| 8 | Control de gas preciso | 1 |
| 9 | Unidad de vacío | 1 |
| 10 | Manual de operación | 1 |
Personalización y Configuraciones Opcionales
En KINTEK, nos enorgullecemos de nuestra sólida capacidad de personalización profunda. Podemos adaptar el horno de tubo PECVD deslizante para satisfacer con precisión sus requisitos experimentales únicos. Las configuraciones opcionales disponibles incluyen:
- Detección y monitoreo de gas en el tubo (p. ej., H2, O2)
- Sistemas independientes de monitoreo y registro de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Control de tasa de flujo de alimentación de gas personalizado (medidores de flujo de masa o medidores de flujo de flotador)
- Controlador de temperatura de pantalla táctil avanzado con funciones versátiles y fáciles de usar para el operador
- Varias configuraciones de estaciones de bombas de alto vacío (p. ej., bomba de vacío de paletas, bomba molecular, bomba de difusión)
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El horno de tubo PECVD deslizante de KINTEK está diseñado para la adaptabilidad y el alto rendimiento. Entendemos que su investigación es única. Aproveche nuestras sólidas capacidades de personalización profunda para adaptar este sistema a sus especificaciones exactas. Ya sea que necesite diferentes rangos de temperatura, configuraciones de gas específicas, funciones de control avanzadas o configuraciones de vacío únicas, nuestro equipo de expertos está listo para ayudarlo.
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FAQ
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina MPCVD?
¿Qué Es Un Horno Tubular Y Cómo Funciona?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones Habituales De Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Es Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina MPCVD?
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¿Cuáles Son Las Principales Características De Los Hornos Tubulares Multizona?
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¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Existen?
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