CVD & PECVD Furnace
Horno tubular PECVD deslizante con gasificador líquido Máquina PECVD
Número de artículo : KT-PE12
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1200℃
- Potencia de salida del plasma RF
- 5-500W
- Presión de vacío nominal
- 10Pa~6x10-4Pa
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Desbloquee la deposición de película fina de precisión
El horno tubular KINTEK Slide PECVD con gasificador líquido es un sistema de última generación diseñado para la deposición versátil y de alto rendimiento de películas finas. Diseñado para satisfacer las rigurosas exigencias de la investigación y la producción modernas, combina una fuente de plasma RF de 500 W, un innovador horno deslizante para ciclos térmicos rápidos, un control preciso del flujo de gas y una robusta estación de vacío. Ya sea para electrónica, semiconductores, óptica o ciencia de materiales avanzados, este sistema ofrece unos resultados y una fiabilidad excepcionales. En KINTEK, aprovechamos nuestra excepcional experiencia en I+D y fabricación interna para proporcionar soluciones avanzadas de hornos como ésta, y ofrecemos una gran personalización para satisfacer con precisión sus requisitos experimentales únicos.
Principales características y ventajas
El horno tubular PECVD de corredera con máquina PECVD con gasificador líquido ofrece numerosas ventajas para mejorar su investigación y producción:
- Generación de energía mejorada: La innovadora estructura de barco de grafito mejora significativamente la producción de energía de las obleas de células solares.
- Calidad uniforme de las células: Elimina eficazmente las diferencias de color en las células PECVD tubulares, garantizando resultados uniformes.
- Fuente de plasma RF versátil: Incorpora una fuente de plasma RF de adaptación automática con un amplio rango de potencia de salida (5-500 W) para un rendimiento estable y adaptable a diversas aplicaciones.
- Ciclado térmico rápido: El sistema de deslizamiento de la cámara del horno permite calentar y enfriar a alta velocidad, reduciendo significativamente el tiempo de procesamiento. La circulación auxiliar de aire forzado acelera aún más la velocidad de enfriamiento.
- Funcionamiento automatizado: El movimiento deslizante automatizado opcional mejora la eficiencia y reduce la intervención manual para agilizar los flujos de trabajo.
- Gestión precisa de la temperatura: El control de temperatura programable PID garantiza una regulación precisa de la temperatura. Admite control remoto y centralizado para mayor comodidad y flexibilidad operativa.
- Control preciso del gas: Los caudalímetros másicos MFC de alta precisión controlan con exactitud los gases de origen, garantizando un suministro de gas estable, consistente y premezclado.
- Sistema de vacío de alto rendimiento: La brida de vacío de acero inoxidable con múltiples puertos de adaptación se adapta a diversas configuraciones de estaciones de bombas de vacío, garantizando un alto grado de vacío y un sellado fiable.
- Interfaz fácil de usar: Equipada con el controlador CTF Pro de pantalla táctil TFT de 7 pulgadas, que simplifica la configuración del programa, el funcionamiento y permite un fácil análisis de los datos históricos.
Aplicaciones versátiles
El horno tubular PECVD de corredera con gasificador líquido PECVD es ideal para una amplia gama de aplicaciones, incluyendo:
- Deposición química en fase vapor (CVD)
- Deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD)
- Deposición de películas finas de diversos materiales
- Fabricación e investigación de células solares
- Procesado de semiconductores
- Investigación y desarrollo en nanotecnología
- Estudios avanzados de ciencia de materiales
- Investigación y desarrollo generales en atmósferas controladas
Explore nuestras configuraciones de sistemas
KINTEK ofrece varias configuraciones de sistemas CVD para satisfacer diversas necesidades experimentales. A continuación se muestran ejemplos de configuraciones disponibles:
Principio de funcionamiento
La máquina de PECVD con horno de tubo dividido con gasificador líquido emplea plasma a baja temperatura para generar una descarga luminosa en el cátodo de la cámara de proceso (bandeja de muestras). La descarga luminosa (u otra fuente de calor) eleva la temperatura de la muestra a un nivel predeterminado. A continuación, se introducen cantidades controladas de gas de proceso, lo que provoca reacciones químicas y de plasma para formar una película sólida en la superficie de la muestra.
Ventajas de seguridad integradas
- Protección contra sobrecorriente y sobretemperatura: El horno está equipado con funciones de protección contra sobrecorriente y alarma por sobretemperatura, que cortan automáticamente la alimentación si se superan los límites.
- Detección de fallo del termopar: Una función integrada de detección de termopar detendrá el calentamiento y activará una alarma si se detecta un termopar roto o averiado, evitando el calentamiento incontrolado.
- Función de reinicio en caso de fallo de alimentación: El controlador PE Pro admite una función de reinicio por fallo de alimentación, lo que permite al horno reanudar su programa de calentamiento automáticamente una vez que se restablece la alimentación tras un corte.
Especificaciones técnicas
| Modelo de horno | KT-PE12-60 |
| Temperatura máxima | 1200℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1100℃ |
| Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60mm |
| Longitud de la zona de calentamiento | 1x450mm |
| Material de la cámara | Fibra de alúmina japonesa |
| Elemento calefactor | Bobina de alambre Cr2Al2Mo2 |
| Velocidad de calentamiento | 0-20℃/min |
| Par térmico | Tipo K incorporado |
| Regulador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Distancia de deslizamiento | 600mm |
| Unidad de plasma RF | |
| Potencia de salida | 5 -500W ajustable con ± 1% de estabilidad |
| Frecuencia RF | 13,56 MHz ±0,005% de estabilidad |
| Potencia de reflexión | 350W máx. |
| Adaptación | Automática |
| Ruido | |
| Refrigeración | Refrigeración por aire. |
| Unidad de control preciso de gas | |
| Caudalímetro | Caudalímetro másico MFC |
| Canales de gas | 4 canales |
| Caudal |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linealidad | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0,2% E.F. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de funcionamiento | 0,45MPa |
| Controlador del caudalímetro | Controlador de perilla digital/Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío rotativa de paletas |
| Caudal de la bomba | 4L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro de silicona Pirani/Resistance |
| Presión nominal de vacío | 10Pa |
| Unidad de alto vacío (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba rotativa de paletas+Bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4L/S+110L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-4Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores pueden personalizarse | |
Contenido estándar del paquete
| No. | Descripción | Cantidad |
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | Tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico del tubo | 2 |
| 5 | Gancho bloque térmico tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | Fuente de plasma de RF | 1 |
| 8 | Control preciso del gas | 1 |
| 9 | Unidad de vacío | 1 |
| 10 | Manual de instrucciones | 1 |
Personalización y configuraciones opcionales
En KINTEK, estamos orgullosos de nuestra gran capacidad de personalización. Podemos adaptar el horno tubular Slide PECVD para satisfacer con precisión sus requisitos experimentales únicos. Las configuraciones opcionales disponibles incluyen:
- Detección y monitorización de gas en el tubo (por ejemplo, H2, O2)
- Sistemas independientes de control y registro de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Control personalizado del caudal de alimentación de gas (caudalímetros másicos o de flotador)
- Controlador de temperatura de pantalla táctil avanzada con funciones versátiles y de fácil manejo
- Varias configuraciones de estaciones de bombas de alto vacío (por ejemplo, bomba de vacío de paletas, bomba molecular, bomba de difusión)
Asóciese con KINTEK para sus necesidades de hornos avanzados
El horno tubular Slide PECVD de KINTEK está diseñado para ofrecer adaptabilidad y alto rendimiento. Entendemos que su investigación es única. Aproveche nuestra gran capacidad de personalización para adaptar este sistema a sus especificaciones exactas. Si necesita diferentes rangos de temperatura, configuraciones de gas específicas, funciones de control avanzadas o configuraciones de vacío únicas, nuestro equipo de expertos está preparado para ayudarle.
¿Listo para elevar su investigación o producción? Comente sus necesidades con nuestros expertos y obtenga un presupuesto personalizado. Por favor, rellene nuestro formulario de contacto y uno de nuestros especialistas se pondrá en contacto con usted en breve para ayudarle a configurar la solución PECVD perfecta.
FAQ
¿Qué Es Un Horno Tubular Y Cómo Funciona?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones Habituales De Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Es Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Tubular Partido?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Una Máquina CVD?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Partido?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Un Horno Tubular Vertical?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Existen?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Características Clave De Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Partido?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Vertical?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Multizona Existen?
¿Qué Tipos De Máquinas CVD Hay Disponibles?
¿Qué Temperatura Puede Alcanzar Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Verticales Hay Disponibles?
¿Pueden Funcionar Los Hornos Tubulares En Distintas Atmósferas?
¿Por Qué Es Beneficioso El Diseño Dividido En Un Horno Tubular?
¿Por Qué Elegir Un Horno Tubular Vertical En Lugar De Uno Horizontal?
¿Qué Hace Especiales A Los Hornos Tubulares KINTEK?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Se Pueden Personalizar Los Hornos Tubulares Verticales?
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