CVD & PECVD Furnace
Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD
Número de artículo : KT-CTF12
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura máxima
- 1200℃
- Diámetro del tubo del horno
- 60mm
- Velocidad de calentamiento
- 0-20℃/min
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Detalle&Piezas
Introducción
Aprovechando su excepcional I+D y fabricación propia, KINTEK ofrece soluciones avanzadas de hornos de alta temperatura adaptadas a las diversas necesidades de los laboratorios. El Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío es un ejemplo de ello, ya que ofrece un sistema versátil y de alto rendimiento meticulosamente diseñado para aplicaciones exigentes de deposición química en fase vapor (CVD).
Este horno está diseñado para ofrecer precisión y facilidad de uso. Las características clave que benefician a su investigación incluyen:
- Cámara de horno dividida: Permite un acceso directo a las muestras de reacción y facilita un enfriamiento rápido, mejorando significativamente la eficiencia experimental y el rendimiento.
- Capacidad de alta temperatura: Utiliza un tubo de cuarzo de alta pureza (diámetro estándar de 60 mm, opciones personalizables disponibles) adecuado para procesos que requieren temperaturas de hasta 1200 °C.
- Control preciso del gas: Equipado con un caudalímetro másico MFC de 4 canales, que proporciona un suministro preciso y estable de gases fuente como CH4, H2, O2 y N2 para obtener resultados de proceso consistentes.
- Estación de vacío integrada: Incorpora una robusta bomba de vacío de paletas rotativas 4L/S, capaz de alcanzar una presión de vacío máxima de 10 Pa, garantizando un entorno óptimo para diversos procesos de vacío.
En KINTEK entendemos que los requisitos experimentales únicos exigen soluciones flexibles. Nuestra gran capacidad de personalización significa que, aunque este sistema está repleto de características avanzadas ideales para la ciencia de materiales, el procesamiento de semiconductores y la I+D pionera, podemos adaptarlo aún más a sus necesidades específicas. Nuestra experiencia abarca una completa línea de productos, que incluye hornos de mufla, tubulares y rotativos, hornos de vacío y atmosféricos y sistemas avanzados de CVD/PECVD/MPCVD, lo que nos permite ofrecerle la solución perfecta para su trabajo.
¿Está listo para elevar sus capacidades de investigación o discutir una configuración personalizada para sus procesos de CVD? Póngase en contacto con nuestros especialistas hoy mismo para explorar cómo el horno tubular CVD de cámara partida puede adaptarse a sus requisitos experimentales precisos y para solicitar un presupuesto.
Aplicaciones
El horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío es un equipo versátil y avanzado diseñado para una gran variedad de aplicaciones en los campos de la ciencia de materiales, la fabricación de semiconductores y la investigación y el desarrollo. Esta máquina es especialmente útil para procesos que requieren un control preciso de la temperatura, el flujo de gas y los niveles de vacío, lo que la convierte en una herramienta esencial para la síntesis y el procesamiento de materiales de alta calidad.
- Síntesis de nanomateriales: El horno es ideal para el crecimiento de nanohilos, nanopelículas y otros materiales nanoestructurados, que son cruciales en el desarrollo de dispositivos electrónicos y optoelectrónicos avanzados.
- Recubrimiento al vacío: Se utiliza ampliamente para la deposición de películas finas sobre diversos sustratos, incluidas películas metálicas, películas cerámicas y películas compuestas, que son esenciales para mejorar las propiedades de los materiales en aplicaciones como la óptica y la electrónica.
- Procesamiento de materiales para baterías: El horno es adecuado para el secado y la sinterización de materiales de baterías, que es un paso crítico en la producción de baterías de alto rendimiento.
- Secado y sinterización de materiales: Se utiliza en la sinterización a alta temperatura de cerámica, materiales refractarios y materiales especiales, garantizando la consolidación y densificación de estos materiales.
- Tratamiento térmico en atmósfera y vacío: La configuración vertical del horno tubular permite el temple, recocido y revenido de pequeñas piezas de acero, así como el recubrimiento vertical por CVD, lo que lo convierte en un valioso activo en los procesos metalúrgicos.
- Investigación y desarrollo: Es ampliamente utilizado en universidades, institutos de investigación y empresas industriales y mineras para llevar a cabo experimentos de alta temperatura, sinterización en atmósfera, atmósfera reductora y experimentos CVD/CVI, contribuyendo al avance de la ciencia y tecnología de materiales.
Características
El Horno tubular CVD de cámara partida con máquina CVD de estación de vacío es un sofisticado equipo diseñado para procesos avanzados de deposición química en fase vapor (CVD). Este horno integra tecnología de vanguardia para mejorar la eficiencia y la calidad de la deposición de películas, por lo que es ideal para aplicaciones industriales y de investigación. Estas son las principales características y sus ventajas:
- Alta tasa de deposición de películas: Gracias a la tecnología de resplandor por radiofrecuencia, este horno aumenta significativamente la velocidad de deposición de la película, alcanzando hasta 10Å/S. Esta rápida deposición es crucial para la producción y la investigación de alto rendimiento, ahorrando tiempo y aumentando la productividad.
- Uniformidad de gran superficie: Gracias a la avanzada tecnología de alimentación RF multipunto y a la distribución especializada de la trayectoria del gas, el horno garantiza una uniformidad de la película de hasta el 8%. Esta uniformidad es esencial para crear revestimientos uniformes y de alta calidad en grandes sustratos, mejorando la fiabilidad de los materiales producidos.
- Deposición uniforme: El diseño incorpora conceptos avanzados de la industria de semiconductores, lo que da como resultado una desviación inferior al 2% entre sustratos. Este alto nivel de consistencia es vital para aplicaciones que requieren resultados precisos y repetibles, como en la producción de componentes electrónicos.
- Control estable del proceso: La gran estabilidad del equipo garantiza la continuidad y consistencia del proceso CVD. Esta fiabilidad es fundamental para mantener la integridad del proceso y reducir el riesgo de defectos o fallos durante el funcionamiento.
- Sistema de control inteligente: Patentado por Bonage, el sistema de control integrado incluye un sistema de control de temperatura de alto rendimiento que utiliza un mecanismo de retroalimentación negativa de bucle cerrado. Este sistema, combinado con componentes eléctricos importados de alta calidad, mejora el rendimiento general y la fiabilidad del equipo, haciéndolo prácticamente libre de mantenimiento.
- Aplicaciones versátiles: Adecuado para depositar diversos tipos de películas, incluidas películas metálicas, cerámicas y compuestas, el horno admite procesos de crecimiento continuo y puede ampliarse fácilmente con funciones adicionales como la limpieza y el grabado por plasma. Esta versatilidad lo convierte en un valioso activo para diversas necesidades de investigación y producción.
Principio
El horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío es un horno de vacío de alta temperatura utilizado para procesos de deposición química en fase vapor (CVD). CVD es un proceso en el que una fina película de material se deposita sobre un sustrato por la reacción química de un gas o vapor. El horno tubular CVD de cámara dividida con estación de vacío utiliza una cámara de horno dividida para facilitar el acceso al sustrato durante el proceso CVD. La estación de vacío se utiliza para crear un vacío en la cámara del horno, lo que ayuda a eliminar impurezas y mejorar la calidad de la película depositada.
Ventajas
- Observación intuitiva de la muestra y enfriamiento rápido: La cámara de horno dividida permite la observación directa de las muestras de reacción y un enfriamiento rápido.
- Capacidad de alta temperatura: Temperatura máxima de trabajo de hasta 1200℃ para aplicaciones versátiles.
- Control preciso del gas: El caudalímetro másico MFC de 4 canales con fuentes de CH4, H2, O2 y N2 garantiza un suministro de gas preciso y estable.
- Compatibilidad con vacío: La estación de vacío con una bomba de vacío de paletas rotativas 4L/S alcanza una presión de vacío máxima de hasta 10Pa, lo que permite diversos procesos de vacío.
- Calentamiento y enfriamiento de alta velocidad: El sistema de deslizamiento de la cámara del horno facilita el calentamiento y enfriamiento rápidos para un procesamiento eficiente de las muestras.
- Control avanzado de la temperatura: Control de temperatura programable PID con excelente precisión, control remoto y capacidad de control centralizado.
- Interfaz fácil de usar: El controlador CTF Pro con pantalla táctil TFT de 7 pulgadas ofrece una configuración intuitiva de los programas y análisis de datos.
- Configuración de vacío versátil: La brida de vacío de acero inoxidable con puertos adaptables acomoda diferentes estaciones de bomba de vacío para entornos de vacío personalizados.
- Eficiencia energética: El sistema de refrigeración por agua y el diseño de postflujo de gas minimizan el consumo de energía.
- Amplia aplicabilidad: Adecuado para CVD, difusión y otros tratamientos térmicos bajo vacío y protección atmosférica.
Ventaja de seguridad
- El horno tubular Kindle Tech dispone de protección contra sobrecorriente y función de alarma por sobretemperatura, el horno desconectará la alimentación automáticamente.
- El horno incorpora la función de detección de par térmico, el horno dejará de calentar y la alarma se activará una vez que se detecte una rotura o fallo.
- KT-CTF12 Pro soporta la función de reinicio en caso de fallo de alimentación, el horno reanudará el programa de calentamiento del horno cuando la energía es entrante después de un fallo.
Especificaciones tecnicas
| Modelo de horno | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Temperatura maxima | 1200℃ |
| Temperatura de trabajo constante | 1100℃ |
| Material del tubo del horno | Cuarzo de alta pureza |
| Diámetro del tubo del horno | 60mm |
| Longitud de la zona de calentamiento | 1x450mm |
| Material de la cámara | Fibra de alúmina japonesa |
| Elemento calefactor | Bobina de alambre Cr2Al2Mo2 |
| Velocidad de calentamiento | 0-20℃/min |
| Par térmico | Tipo K incorporado |
| Regulador de temperatura | Controlador PID digital/Controlador PID de pantalla táctil |
| Precisión del control de temperatura | ±1℃ |
| Distancia de deslizamiento | 600mm |
| Unidad de control preciso de gas | |
| Caudalímetro | Caudalímetro másico MFC |
| Canales de gas | 4 canales |
| Caudal |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linealidad | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidad | ±0,2% E.F. |
| Tubería y válvula | Acero inoxidable |
| Presión máxima de funcionamiento | 0,45MPa |
| Controlador del caudalímetro | Controlador de perilla digital/Controlador de pantalla táctil |
| Unidad de vacío estándar (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba de vacío rotativa de paletas |
| Caudal de la bomba | 4L/S |
| Boca de aspiración de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro de silicona Pirani/Resistance |
| Presión nominal de vacío | 10Pa |
| Unidad de alto vacío (opcional) | |
| Bomba de vacío | Bomba rotativa de paletas+Bomba molecular |
| Caudal de la bomba | 4L/S+110L/S |
| Puerto de succión de vacío | KF25 |
| Vacuómetro | Vacuómetro compuesto |
| Presión de vacío nominal | 6x10-5Pa |
| Las especificaciones y configuraciones anteriores pueden personalizarse | |
Paquete estándar
| No. | Descripción | Cantidad |
|---|---|---|
| 1 | Horno | 1 |
| 2 | Tubo de cuarzo | 1 |
| 3 | Brida de vacío | 2 |
| 4 | Bloque térmico del tubo | 2 |
| 5 | Gancho bloque térmico tubo | 1 |
| 6 | Guante resistente al calor | 1 |
| 7 | Control preciso del gas | 1 |
| 8 | Unidad de vacío | 1 |
| 9 | Manual de instrucciones | 1 |
Configuración opcional
- Detección y monitorización de gases en el tubo, como H2, O2, etc.
- Control y registro independiente de la temperatura del horno
- Puerto de comunicación RS 485 para control remoto por PC y exportación de datos
- Control de caudal de alimentación de gases de inserción, como caudalímetro másico y caudalímetro de flotador
- Controlador de temperatura de pantalla táctil con funciones versátiles y sencillas para el operador
- Configuración de estaciones de bombas de alto vacío, como bombas de vacío de paletas, bombas moleculares y bombas de difusión.
Para consultas sobre personalización o para saber más sobre cómo KINTEK puede ayudarle en sus necesidades específicas de investigación, por favor rellene nuestro formulario de contacto o póngase en contacto con nuestro equipo de expertos.
FAQ
¿Qué Es Un Horno Tubular Y Cómo Funciona?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina MPCVD?
¿Para Qué Se Utiliza Una Máquina PECVD?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Un Horno De Vacío?
¿Qué Es Un Horno Tubular Vertical?
¿Para Qué Se Utiliza Un Horno De Atmósfera?
¿Qué Es Un Horno De Inducción De Vacío?
¿Cuál Es El Principio De Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina MPCVD?
¿Cuáles Son Los Principales Tipos De Máquinas PECVD?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno De Vacío?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno De Atmósfera?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos De Inducción De Vacío?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina CVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Las Máquinas MPCVD?
¿Cómo Funciona Una Máquina De PECVD?
¿Cómo Funciona Un Horno De Vacío?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cómo Funciona Un Horno De Atmósfera?
¿Cómo Funciona Un Horno De Inducción Al Vacío?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Una Máquina CVD?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Existen?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Los Principales Componentes De Una Máquina MPCVD?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Una Máquina PECVD?
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¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno De Atmósfera?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno De Inducción Al Vacío?
¿Cuáles Son Las Características Clave De Una Máquina CVD?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Multizona Existen?
¿Cómo Mejora La Eficiencia Energética Una Máquina MPCVD?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Una Máquina PECVD?
¿Qué Tipos De Materiales Pueden Procesarse En Un Horno De Vacío?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Verticales Hay Disponibles?
¿Qué Tipos De Gases Pueden Utilizarse En Un Horno De Atmósfera?
¿Qué Tipos De Hornos De Inducción Al Vacío Existen?
¿Qué Tipos De Máquinas CVD Hay Disponibles?
¿Pueden Funcionar Los Hornos Tubulares En Distintas Atmósferas?
¿Por Qué Se Prefiere El MPCVD Para El Crecimiento Del Diamante?
¿Qué Materiales Pueden Depositarse Con Una Máquina De PECVD?
¿Cuál Es La Diferencia Entre Los Hornos De Vacío De Pared Caliente Y De Pared Fría?
¿Por Qué Elegir Un Horno Tubular Vertical En Lugar De Uno Horizontal?
¿De Qué Dispositivos De Seguridad Disponen Los Hornos De Atmósfera Avanzados?
¿Por Qué Es Importante El Control De La Temperatura En Los Hornos De Inducción De Vacío?
¿Qué Hace Especiales A Los Hornos Tubulares KINTEK?
¿Por Qué Se Prefiere El PECVD A Otros Métodos De Deposición?
¿Pueden Personalizarse Los Hornos De Vacío Para Aplicaciones Específicas?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Qué Materiales Pueden Procesarse En Un Horno De Inducción Al Vacío?
¿Se Pueden Personalizar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Cómo Beneficia El Entorno De Vacío Al Procesamiento De Materiales?
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