Los hornos tubulares partidos de tres zonas ofrecen opciones flexibles de suministro eléctrico para adaptarse a diferentes entornos industriales y de laboratorio.Las opciones principales son 220 V de corriente alterna monofásica y 415 V de corriente alterna trifásica, que se adaptan a las distintas necesidades de energía e infraestructuras de las instalaciones.Estos hornos están diseñados para aplicaciones de alta temperatura como reactores de deposición química de vapor con funciones avanzadas como el control de temperatura multizona y sólidos mecanismos de seguridad.
Explicación de los puntos clave:
1. Opciones de alimentación
-
220 V CA monofásica:
- Ideal para operaciones a pequeña escala o instalaciones con una infraestructura eléctrica limitada.
- Adecuado para aplicaciones con demandas de potencia moderadas, como laboratorios de investigación o producción a escala piloto.
-
415 V CA trifásica:
- Preferido para operaciones a escala industrial que requieren una mayor potencia de entrada.
- Garantiza un rendimiento estable para procesos de alta temperatura (hasta 1800°C) y configuraciones multizona.
2. Características específicas de la aplicación
-
Control multizona:
- Permite la regulación independiente de la temperatura en tres zonas, lo que es fundamental para procesos como el dopaje de semiconductores o la síntesis de nanomateriales.
- Las opciones de controlador maestro/esclavo optimizan la uniformidad y la reproducibilidad.
-
Personalización:
- Los diámetros de los tubos (50-120 mm) y las longitudes de las zonas calientes (300-900 mm) pueden adaptarse a necesidades específicas.
- Elementos calefactores (Kanthal, SiC, MoSi2) seleccionados en función de los requisitos de temperatura y la compatibilidad de materiales.
3. Seguridad y precisión
- La protección contra sobrecalentamiento y las alarmas de rotura del termopar garantizan la seguridad de funcionamiento.
- Las capacidades de programación por pasos permiten un perfilado térmico preciso para flujos de trabajo complejos.
4. Relevancia industrial
- Los hornos de tubo partido se utilizan ampliamente en la fabricación de semiconductores, cerámica y ciencia de materiales, donde los gradientes térmicos controlados son esenciales.
- La alimentación trifásica (415 V) admite aplicaciones de alto consumo energético, como el reactores de deposición química de vapor sistemas.
Seleccionando la fuente de alimentación y la configuración adecuadas, los usuarios pueden optimizar el rendimiento tanto para la investigación como para el procesamiento térmico a escala industrial.
Tabla resumen:
| Características | 220 V CA monofásica | 415 V CA trifásica |
|---|---|---|
| Ideal para | Laboratorios a pequeña escala, producción piloto | Necesidades de gran potencia a escala industrial |
| Rango de temperatura | Hasta 1800°C | Hasta 1800°C |
| Ventajas clave | Menor demanda de infraestructura | Rendimiento estable de alta potencia |
| Aplicaciones típicas | Investigación, nanomateriales | Reactores CVD, dopaje de semiconductores |
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