El sistema de vacío de los equipos PECVD (deposición química en fase vapor mejorada por plasma) es fundamental para mantener el entorno de baja presión necesario para la deposición de películas finas.Las especificaciones clave incluyen un puerto de succión KF40 y un puerto de escape G1 pulgadas, con velocidades de escape de 60L/s para nitrógeno y 55L/s con una red protectora.El sistema utiliza cojinetes cerámicos con lubricación por grasa, refrigeración por aire forzado y funciona a 69.000 rpm.Incorpora un controlador de bomba molecular TC75 y una bomba de vacío de paletas rotativas de dos etapas con una velocidad de escape de 160 L/min.Las relaciones de compresión son de 2x10^7 para N2 y 3x10^3 para H2, con una contrapresión máxima admisible de 800Pa y una vida útil de 20.000 horas.Los tiempos de arranque y parada son de 1,5-2 minutos y 15-25 minutos, respectivamente.Estas especificaciones garantizan un funcionamiento eficaz y estable, crucial para la deposición de películas de alta calidad en aplicaciones como la fabricación de semiconductores y los revestimientos ópticos.
Explicación de los puntos clave:
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Configuraciones de puertos y velocidades de escape
- Boca de aspiración KF40 y boca de escape G1 pulgadas:Las conexiones normalizadas garantizan la compatibilidad con otros componentes de vacío.
- Velocidades de escape: 60L/s para nitrógeno (55L/s con red de protección) indican una alta eficiencia de bombeo, crítica para mantener las condiciones de baja presión durante la deposición.
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Detalles mecánicos y de funcionamiento
- Rodamientos cerámicos con lubricación por grasa:Mejora la durabilidad y reduce la fricción a altas velocidades (69.000 rpm).
- Refrigeración por aire forzado:Evita el sobrecalentamiento durante un funcionamiento prolongado.
- Tiempos de arranque/parada:1,5-2 minutos (arranque) y 15-25 minutos (parada) reflejan la capacidad de respuesta del sistema y los protocolos de seguridad.
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Métricas de rendimiento
- Relaciones de compresión 2x10^7 para N2 y 3x10^3 para H2 garantizan un tratamiento eficaz del gas en diferentes condiciones de proceso.
- Contrapresión máxima El límite de 800Pa protege el sistema de daños por sobrepresión.
- Vida útil de los rodamientos: 20.000 horas indica fiabilidad a largo plazo, reduciendo los costes de mantenimiento.
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Componentes integrados
- Controlador de bomba molecular TC75:Proporciona un control preciso de los niveles de vacío.
- Bomba rotativa de paletas de dos etapas (160L/min):Funciona en tándem con la bomba molecular para una evacuación eficaz de los gases.
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Contexto más amplio del sistema
- Equipos de PECVD, incluidos máquina mpcvd En la actualidad, la mayoría de los fabricantes de sistemas de vacío de la industria química y farmacéutica integran estos sistemas de vacío con reactores mejorados por RF (p. ej., diseños de placas paralelas o inductivos) para una generación uniforme de plasma.
- Características como la limpieza de plasma in situ y las etapas de oblea con temperatura controlada (20°C-1200°C) complementan el papel del sistema de vacío para lograr una deposición de alta pureza.
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Consideraciones sobre la aplicación
- Las especificaciones del sistema de vacío influyen directamente en la calidad de la película en aplicaciones como células solares, MEMS y revestimientos de barrera.Por ejemplo, las bajas temperaturas de formación de película (<400°C) permiten la deposición sobre sustratos sensibles al calor.
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Mantenimiento y longevidad
- La supervisión periódica de la vida útil de los rodamientos y de los umbrales de contrapresión garantiza un rendimiento sostenido, en consonancia con las normas del sector para las herramientas de fabricación de semiconductores.
Al conocer estas especificaciones, los compradores pueden evaluar la compatibilidad con los requisitos de sus procesos, equilibrando la velocidad, la precisión y la vida útil operativa.La integración de sistemas de vacío robustos con reactores PECVD avanzados es un ejemplo de tecnologías que dan forma silenciosamente a la microelectrónica y la nanotecnología modernas.
Cuadro sinóptico:
| Especificación | Detalles |
|---|---|
| Configuraciones de puerto | Boca de aspiración KF40, boca de escape G1 pulgadas |
| Velocidades de escape | 60L/s (N₂), 55L/s (con red de protección) |
| Rodamientos y refrigeración | Rodamientos cerámicos (lubricados con grasa), refrigeración forzada por aire, 69.000 rpm |
| Relaciones de compresión | 2×10⁷ (N₂), 3×10³ (H₂) |
| Contrapresión máxima | 800Pa |
| Vida útil del rodamiento | 20.000 horas |
| Tiempos de arranque/parada | 1,5-2 min (arranque), 15-25 min (parada) |
| Componentes integrados | Controlador de bomba molecular TC75, bomba rotativa de paletas de dos etapas (160L/min) |
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