
CVD & PECVD Furnace
Máquina de horno tubular inclinado de deposición química mejorada por plasma PECVD
Número de artículo : KT-PED
El precio varía según Especificaciones y personalizaciones
- Temperatura de calentamiento
- ≤800℃
- Grado de vacío
- ≤5×10-5Pa
- Potencia de salida
- 500W-1000W

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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Máquina de recubrimiento
Sistemas avanzados PECVD de KINTEK: Recubrimiento de precisión, adaptado a sus necesidades
Aprovechando su excepcional I+D y fabricación propia, KINTEK ofrece sistemas avanzados de deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) diseñados para diversos laboratorios y aplicaciones industriales. PECVD es una sofisticada técnica de deposición de película fina al vacío que emplea plasma para activar los gases precursores. Esto permite la creación de recubrimientos uniformes de alta calidad a temperaturas significativamente más bajas que el tradicional depósito químico en fase vapor (CVD), ampliando las posibilidades para sustratos sensibles al calor (como los plásticos) y una diversa gama de materiales de recubrimiento (incluidos dieléctricos, semiconductores y aislantes).
Nuestras máquinas de PECVD son una oferta clave dentro de la completa gama de soluciones avanzadas de hornos de alta temperatura de KINTEK, que también incluye hornos de mufla, tubulares y rotativos, hornos de vacío y atmósfera y otros sistemas de CVD/MPCVD. Nos enorgullecemos de nuestra gran capacidad de personalización, lo que garantiza que su sistema PECVD esté diseñado con precisión para satisfacer sus requisitos experimentales y de producción exclusivos.
Características principales
Las máquinas de recubrimiento de deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) de KINTEK ofrecen una gama de características diseñadas para un rendimiento y versatilidad superiores:
- Deposición a baja temperatura: Permite la formación de películas de alta calidad sobre sustratos delicados o de bajo punto de fusión sin daños térmicos, ampliando significativamente la compatibilidad de materiales.
- Alta velocidad de deposición: Consigue un rápido crecimiento de la película, maximizando el rendimiento, reduciendo el tiempo de procesamiento y aumentando la productividad general.
- Películas uniformes y resistentes al agrietamiento: Produce revestimientos con una consistencia excepcional en espesor y propiedades en todo el sustrato, minimizando defectos como el agrietamiento para obtener resultados fiables y duraderos.
- Excelente adhesión al sustrato: Garantiza una fuerte unión entre la película depositada y el material del sustrato, lo que se traduce en un rendimiento duradero y evita la delaminación.
- Capacidad de recubrimiento versátil: Admite la deposición de una amplia gama de materiales, como SiO2, SiNx, SiOxNy, etc., para satisfacer las diversas necesidades de las aplicaciones.
- Recubrimiento conforme de geometrías complejas: Capaz de recubrir uniformemente sustratos con formas y topografías intrincadas, garantizando una cobertura completa y un rendimiento óptimo.
- Diseño fácil de usar: Diseñada para requerir poco mantenimiento y una instalación sencilla, minimizando el tiempo de inactividad y simplificando la integración en su flujo de trabajo.
Especificaciones técnicas
Soporte de muestras | Tamaño | 1-6 pulgadas |
Velocidad de rotación | 0-20rpm ajustable | |
Temperatura de calentamiento | ≤800℃ | |
Precisión de control | ±0,5℃ Controlador PID SHIMADEN | |
Purga de gas | Medidor de caudal | CONTROLADOR DE CAUDALÍMETRO MÁSICO (MFC) |
Canales | 4 canales | |
Método de refrigeración | Refrigeración por agua circulante | |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Φ500mm X 550mm |
Puerto de observación | Puerto de visión completa con deflector | |
Material de la cámara | Acero inoxidable 316 | |
Tipo de puerta | Puerta de apertura frontal | |
Material de la tapa | Acero inoxidable 304 | |
Puerto de la bomba de vacío | Brida CF200 | |
Puerto de entrada de gas | φ6 Conector VCR | |
Potencia de plasma | Fuente de alimentación | Alimentación CC o RF |
Modo de acoplamiento | Acoplado inductivamente o capacitivo de placa | |
Potencia de salida | 500W-1000W | |
Potencia de polarización | 500v | |
Bomba de vacío | Prebomba | Bomba de vacío de paletas 15L/S |
Puerto de la bomba turbo | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
Puerto de alivio | KF25 | |
Velocidad de la bomba | Bomba de paletas:15l/s,Bomba turbo:1200l/s或1600l/s | |
Grado de vacío | ≤5×10-5Pa | |
Sensor de vacío | Medidor de vacío de ionización/resistencia/medidor de película | |
Sistema | Alimentación eléctrica | CA 220V /380 50Hz |
Potencia nominal | 5kW | |
Dimensiones | 900mm X 820mm X870mm | |
Peso | 200kg |
Aplicaciones
Las máquinas de recubrimiento por deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) de KINTEK ofrecen una solución versátil para una amplia gama de industrias y aplicaciones de vanguardia:
- Iluminación LED: Deposición de películas dieléctricas y semiconductoras de alta calidad, cruciales para unos diodos emisores de luz (LED) eficientes y duraderos.
- Semiconductores de potencia: Formación de capas aislantes, óxidos de compuerta y otros componentes críticos de las películas en dispositivos semiconductores de potencia.
- MEMS (sistemas microelectromecánicos): Fabricación de películas finas de precisión para sensores, actuadores y otros dispositivos a microescala.
- Recubrimientos ópticos: Deposición de revestimientos antirreflectantes, filtros ópticos, capas protectoras y otros componentes ópticos funcionales.
- Células solares de película fina: Producción de películas finas de silicio amorfo y microcristalino, así como de otros materiales semiconductores, para dispositivos fotovoltaicos.
- Modificación de superficies: Mejora de las propiedades superficiales de los materiales, incluida la resistencia a la corrosión, la resistencia al desgaste, la dureza y la biocompatibilidad.
- Nanotecnología: Síntesis de nanomateriales avanzados, como nanopartículas, nanocables y películas ultrafinas para aplicaciones novedosas.
¿Por qué asociarse con KINTEK para la tecnología PECVD?
Elegir KINTEK para sus necesidades de PECVD significa invertir en calidad, fiabilidad y soluciones a medida:
- Personalización profunda: Estamos especializados en la configuración de sistemas PECVD según sus especificaciones exactas, garantizando un rendimiento óptimo para sus aplicaciones únicas y objetivos de investigación.
- I+D y fabricación avanzadas: Nuestra experiencia interna impulsa la innovación, lo que nos permite ofrecer la tecnología PECVD más avanzada.
- Construcción de alta calidad: Nuestros sistemas presentan diseños rígidos construidos con materiales de primera calidad, como el acero inoxidable, para ofrecer estabilidad, durabilidad y una vida útil prolongada.
- Rendimiento fiable: Diseñadas para obtener resultados constantes, nuestras máquinas PECVD producen películas finas uniformes y de alta calidad con una adhesión excelente.
- Asistencia completa: Desde la facilidad de instalación hasta los bajos requisitos de mantenimiento, nos aseguramos de que nuestros sistemas sean fáciles de usar y estén respaldados por un servicio de atención al cliente receptivo.
- Versatilidad: Nuestras máquinas pueden depositar una amplia gama de materiales, lo que las hace adecuadas para diversos procesos industriales y de investigación.
Principio de funcionamiento
La deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD) es un proceso que utiliza plasma (un gas ionizado) para estimular y mejorar las reacciones químicas durante el proceso de deposición de películas finas. A diferencia del CVD convencional, que se basa únicamente en altas temperaturas para impulsar las reacciones, el PECVD emplea plasma de alta energía. Este plasma energiza los gases precursores, dando lugar a la formación de especies reactivas a temperaturas del sustrato significativamente más bajas. Estas especies reactivas se adsorben en la superficie del sustrato y se someten a reacciones químicas para formar una fina película sólida. Este método permite la deposición de diversas películas de alta calidad, como SiO2, SiNx y SiOxNy, y es especialmente eficaz para crear películas finas de silicio amorfo o microcristalino utilizadas en células solares. Las temperaturas de procesado más bajas minimizan el estrés térmico en los sustratos, reducen los agujeros de alfiler y evitan el agrietamiento, lo que hace que el PECVD sea ideal para una gama más amplia de materiales y aplicaciones.
Personalice su solución PECVD con KINTEK
¿Listo para elevar sus capacidades de deposición de película fina? Los expertos de KINTEK están a su disposición para discutir las necesidades y retos específicos de su proyecto. Podemos ayudarle a configurar un sistema de deposición química en fase vapor mejorado por plasma perfectamente adaptado a sus requisitos experimentales o de producción. Benefíciese de nuestra profunda experiencia en personalización y de nuestra avanzada tecnología para lograr resultados superiores.
Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para explorar su solución PECVD personalizada.
FAQ
¿Qué Es Un Horno Tubular Y Cómo Funciona?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Un Horno Tubular Rotativo?
¿Cuál Es El Principio De Un Horno Rotativo?
¿Para Qué Se Utiliza Un Horno Rotativo?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones Habituales De Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Es Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Principales Aplicaciones De Los Hornos Tubulares?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Tubular Rotatorio?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Rotativo?
¿Cuáles Son Los Principales Tipos De Hornos Rotativos Disponibles?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Los Hornos Tubulares Multizona?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Tubular Partido?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones De Un Horno Tubular Vertical?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Rotativo?
¿Cuáles Son Las Principales Características De Un Horno Rotativo?
¿Cómo Funciona Un Horno Rotativo?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Multizona?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Partido?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Un Horno Tubular Vertical?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Existen?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Rotatorio?
¿Cuáles Son Las Aplicaciones Habituales De Un Horno Rotatorio?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Multizona?
¿Cuáles Son Las Ventajas De Utilizar Un Horno Tubular Partido?
¿Cómo Funciona Un Horno Tubular Vertical?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares?
¿Qué Temperatura Puede Alcanzar Un Horno Tubular Rotativo?
¿Cómo Trata Un Horno Rotativo Los Distintos Materiales?
¿Qué Características De Seguridad Incluyen Los Hornos Rotativos?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Multizona Existen?
¿Qué Temperatura Puede Alcanzar Un Horno Tubular Partido?
¿Qué Tipos De Hornos Tubulares Verticales Hay Disponibles?
¿Pueden Funcionar Los Hornos Tubulares En Distintas Atmósferas?
¿Qué Tipos De Materiales Pueden Procesarse En Un Horno Tubular Rotativo?
¿Pueden Personalizarse Los Hornos Rotativos Para Aplicaciones Específicas?
¿Por Qué Es Beneficioso El Diseño Dividido En Un Horno Tubular?
¿Por Qué Elegir Un Horno Tubular Vertical En Lugar De Uno Horizontal?
¿Qué Hace Especiales A Los Hornos Tubulares KINTEK?
¿Qué Rangos De Temperatura Pueden Alcanzar Los Hornos Tubulares Verticales?
¿Se Pueden Personalizar Los Hornos Tubulares Verticales?
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