Los hornos tubulares ofrecen opciones de control versátiles adaptadas a la gestión precisa de la temperatura, la automatización de procesos y la regulación del entorno de gas. Estos sistemas integran controles electrónicos, interfaces de software y manejo especializado de gases para adaptarse a diversas aplicaciones industriales y de investigación, desde ensayos de materiales hasta procesamiento de semiconductores. La disponibilidad de configuraciones multizona y personalizaciones mejora aún más su adaptabilidad.
Explicación de los puntos clave:
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Paneles de control electrónicos con protección contra sobretemperatura
- De serie en la mayoría de hornos tubulares, estos paneles permiten el ajuste manual de la temperatura y la supervisión en tiempo real.
- Los controles de sobretemperatura incorporados desconectan automáticamente el sistema si se superan los umbrales de seguridad, evitando daños en el equipo.
- Compatible con termopares (por ejemplo, tipo K, S) para una precisión en rangos de hasta 1800°C.
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Software de control y adquisición de datos (DACS)
- Permite perfiles de temperatura programables (ciclos de rampa/remojo) para experimentos repetibles.
- Admite el funcionamiento remoto a través de PC o dispositivos móviles, ideal para procesos desatendidos como pruebas de catalizadores o sinterización de cerámica.
- Registra datos históricos para el cumplimiento de normativas y el análisis, algo fundamental en industrias como la aeroespacial o la farmacéutica.
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Sistema de gestión de gases SIMGAS4
- Se integra con hornos de retorta atmosféricos para regular gases inertes/reactivos (por ejemplo, N₂, H₂, Ar).
- Dispone de válvulas de control de flujo y sensores de presión para una composición precisa de la atmósfera, clave en metalurgia o síntesis de grafeno.
- Incluye enclavamientos de seguridad para detener el flujo de gas durante los cortes de energía.
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Configuraciones de control multizona
- Los diseños de tubo dividido permiten zonas de temperatura independientes (por ejemplo, zonas calientes de 300 mm) para aplicaciones basadas en gradientes como el recubrimiento CVD.
- Se pueden personalizar para orientaciones horizontales, verticales o giratorias, y se adaptan al procesamiento por lotes o continuo.
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Opciones de personalización
- Los materiales de los tubos (cuarzo, alúmina) y los diámetros (50-120 mm) se adaptan a las dimensiones de las muestras.
- Elementos calefactores (Kanthal, MoSi₂) seleccionados para temperaturas objetivo (1200-1800°C).
- Cámaras de vacío o alta presión opcionales para investigaciones especializadas.
En conjunto, estos sistemas de control responden a las necesidades de precisión, seguridad y escalabilidad, ya sea en un laboratorio universitario que estudia nanomateriales o en una fábrica que produce componentes para baterías. La configuración adecuada depende de factores como el rendimiento, los requisitos de atmósfera y las tolerancias de uniformidad térmica.
Tabla resumen:
| Opción de control | Características principales | Aplicaciones |
|---|---|---|
| Paneles de control electrónicos | Ajuste manual de la temperatura, protección contra sobretemperatura, compatibilidad con termopares | Ensayo de materiales, procesamiento de semiconductores |
| Software de adquisición de datos (DACS) | Perfiles programables, funcionamiento remoto, registro de datos | Pruebas de catalizadores, sinterización de cerámica, conformidad aeroespacial/farmacéutica |
| Gestión de gases SIMGAS4 | Control de flujo/presión, enclavamientos de seguridad, soporte de gas inerte/reactivo | Metalurgia, síntesis de grafeno, revestimiento CVD |
| Configuraciones multizona | Zonas de temperatura independientes, orientaciones personalizables | Procesos basados en gradientes (por ejemplo, CVD), procesamiento por lotes/continuo |
| Opciones de personalización | Materiales de tubos, elementos calefactores, cámaras de vacío/alta presión | Investigación especializada (por ejemplo, nanomateriales, componentes de baterías) |
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