Conocimiento ¿Cuáles son las propiedades físicas de los elementos calefactores de MoSi2?Rendimiento y durabilidad a altas temperaturas
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Furnace

Actualizado hace 1 día

¿Cuáles son las propiedades físicas de los elementos calefactores de MoSi2?Rendimiento y durabilidad a altas temperaturas

Los elementos calefactores de MoSi2 se utilizan ampliamente en aplicaciones industriales de alta temperatura debido a sus excepcionales propiedades físicas y durabilidad.Estos elementos presentan una alta densidad, resistencia y estabilidad térmica, lo que los hace ideales para entornos que requieren una exposición prolongada al calor extremo.Su fragilidad exige una manipulación cuidadosa, pero su larga vida útil y mínimos requisitos de mantenimiento compensan estos retos.Industrias como la aeroespacial y la automovilística prefieren el MoSi2 por su capacidad para mantener una resistencia estable y soportar ciclos térmicos rápidos.Las dimensiones personalizables y los diseños versátiles mejoran aún más su aplicabilidad en montajes de hornos especializados.

Explicación de los puntos clave:

  1. Propiedades físicas:

    • Densidad:5,8 g/cm³, lo que contribuye a la integridad estructural a altas temperaturas.
    • Resistencia mecánica:
      • Resistencia a la flexión: 350 MPa
      • Resistencia a la compresión: 650 MPa
      • Dureza: 12,0 GPa
    • Propiedades térmicas:
      • Alargamiento térmico4%
      • Velocidad máxima sugerida de calentamiento/enfriamiento10°C por minuto para evitar roturas.
    • Otras propiedades:
      • Porosidad:+/-5%
      • Absorción de agua:0.6%
      • Tenacidad a la fractura4,5 MPa-m¹/²
  2. Ventajas operativas:

    • Rendimiento a altas temperaturas:Puede funcionar a 1800-1900°C (superficie del elemento) y a temperaturas de horno de hasta 1600-1700°C, superando a los elementos de SiC por encima de 1500°C.
    • Resistencia estable:Garantiza un rendimiento térmico constante.
    • Ciclado térmico rápido:Adecuado para aplicaciones que requieren cambios rápidos de temperatura.
    • Longevidad:La mayor vida útil reduce la frecuencia y los costes de sustitución, especialmente en industrias como la aeroespacial y la automovilística, donde los tiempos de inactividad son costosos.
  3. Manipulación y mantenimiento:

    • Brittleness:Requiere una manipulación cuidadosa durante el movimiento y la instalación para evitar roturas.
    • Sensibilidad a la contaminación:El secado adecuado de materiales como el óxido de circonio coloreado/pintado y el mantenimiento regular del horno son fundamentales para evitar problemas de contaminación.
    • Bajo mantenimiento:Un mantenimiento mínimo reduce los costes de funcionamiento y los tiempos de inactividad.
  4. Diseño y personalización:

    • Formas estándar:Incluye configuraciones en L, U, W y rectas, junto con soportes y correas combinadas.
    • Dimensiones:
      • Diámetro de la zona de calentamiento (D1):3-12 mm
      • Diámetro de la zona de enfriamiento (D2)6-24 mm
      • Longitud de la zona de calentamiento (Le):80-1500 mm
      • Longitud de la zona de enfriamiento (Lu)80-2500 mm
      • Distancia central (A): 25-100 mm
    • Tamaños personalizados:Disponible para aplicaciones especializadas, mejorando la versatilidad como elemento calefactor de alta temperatura .
  5. Industria Aplicaciones:

    • Preferido en sectores que requieren una exposición prolongada a altas temperaturas, como el aeroespacial (p. ej., fabricación de componentes de turbinas) y la automoción (p. ej., procesamiento de materiales de alta resistencia).
    • Ideal para hornos en los que la continuidad operativa es crítica, minimizando las costosas interrupciones.

Tabla resumen:

Propiedad Valor
Densidad 5,8 g/cm³
Resistencia a la flexión 350 MPa
Resistencia a la compresión 650 MPa
Dureza 12,0 GPa
Alargamiento térmico 4%
Velocidad máxima de calentamiento/enfriamiento 10°C por minuto
Porosidad +/-5%
Resistencia a la fractura 4,5 MPa-m¹/²
Temperatura de funcionamiento (elemento) 1800-1900°C
Temperatura de funcionamiento (horno) 1600-1700°C

Mejore sus procesos de alta temperatura con los elementos calefactores de MoSi2 de KINTEK.

Aprovechando nuestra avanzada I+D y fabricación propia, KINTEK ofrece soluciones de calentamiento duraderas y de alto rendimiento adaptadas a aplicaciones aeroespaciales, de automoción y hornos especializados.Nuestros elementos de MoSi2 garantizan una resistencia estable, ciclos térmicos rápidos y una vida útil prolongada, lo que minimiza el tiempo de inactividad y los costes.

Póngase en contacto con nosotros para hablar de configuraciones personalizadas o explorar nuestra línea de productos para las necesidades de su laboratorio.

Productos que podría estar buscando:

Comprar elementos calefactores de MoSi2 de alto rendimiento

Explore las ventanas de observación compatibles con el vacío para configuraciones de alta temperatura

Descubra los sistemas PECVD de precisión para el procesamiento avanzado de materiales

Productos relacionados

1700℃ Horno de mufla de alta temperatura para laboratorio

1700℃ Horno de mufla de alta temperatura para laboratorio

Horno de mufla KT-17M: Horno de laboratorio de 1700°C de alta precisión con control PID, eficiencia energética y tamaños personalizables para aplicaciones industriales y de investigación.

1800℃ Horno de mufla de alta temperatura para laboratorio

1800℃ Horno de mufla de alta temperatura para laboratorio

Hornos de mufla KINTEK: Calentamiento de precisión a 1800°C para laboratorios. Eficientes energéticamente, personalizables, con control PID. Ideales para sinterización, recocido e investigación.

Elementos calefactores térmicos de disiliciuro de molibdeno MoSi2 para hornos eléctricos

Elementos calefactores térmicos de disiliciuro de molibdeno MoSi2 para hornos eléctricos

Elementos calefactores de MoSi2 de alto rendimiento para laboratorios, que alcanzan los 1800°C con una resistencia superior a la oxidación. Personalizables, duraderas y fiables para aplicaciones de alta temperatura.

Elementos calefactores térmicos de carburo de silicio SiC para hornos eléctricos

Elementos calefactores térmicos de carburo de silicio SiC para hornos eléctricos

Elementos calefactores de SiC de alto rendimiento para laboratorios, que ofrecen una precisión de 600-1600°C, eficiencia energética y larga vida útil. Soluciones personalizables disponibles.

Brida de ventana de observación de ultra alto vacío CF con mirilla de vidrio de borosilicato de alta

Brida de ventana de observación de ultra alto vacío CF con mirilla de vidrio de borosilicato de alta

Brida de ventana de observación de ultra alto vacío CF con vidrio de borosilicato de alta calidad para aplicaciones UHV precisas. Duradera, transparente y personalizable.

Máquina de horno de prensado en caliente al vacío para laminar y calentar

Máquina de horno de prensado en caliente al vacío para laminar y calentar

Prensa de laminación al vacío KINTEK: Encolado de precisión para aplicaciones de obleas, películas finas y LCP. Temperatura máxima de 500°C, presión de 20 toneladas, certificación CE. Soluciones personalizadas disponibles.

Horno de atmósfera controlada con cinta de malla Horno de atmósfera inerte de nitrógeno

Horno de atmósfera controlada con cinta de malla Horno de atmósfera inerte de nitrógeno

Horno de cinta de malla KINTEK: Horno de atmósfera controlada de alto rendimiento para sinterización, endurecimiento y tratamiento térmico. Personalizable, eficiente energéticamente, control preciso de la temperatura. ¡Solicite un presupuesto ahora!

Placa ciega de brida de vacío KF ISO de acero inoxidable para sistemas de alto vacío

Placa ciega de brida de vacío KF ISO de acero inoxidable para sistemas de alto vacío

Placas ciegas de vacío de acero inoxidable KF/ISO de primera calidad para sistemas de alto vacío. Acero inoxidable 304/316 duradero, juntas de Viton/EPDM. Conexiones KF e ISO. ¡Obtenga asesoramiento experto ahora!

Fuelles de vacío de alto rendimiento para una conexión eficaz y un vacío estable en los sistemas

Fuelles de vacío de alto rendimiento para una conexión eficaz y un vacío estable en los sistemas

Ventana de observación de ultra alto vacío KF con vidrio de borosilicato de alta calidad para una visión clara en entornos exigentes de 10^-9 Torr. Brida duradera de acero inoxidable 304.

Horno de Vacío de Prensa Caliente Máquina de Prensa de Vacío Calentado

Horno de Vacío de Prensa Caliente Máquina de Prensa de Vacío Calentado

Horno de prensado en caliente al vacío KINTEK: Calentamiento y prensado de precisión para una densidad de material superior. Personalizable hasta 2800°C, ideal para metales, cerámica y materiales compuestos. ¡Explore las funciones avanzadas ahora!

Horno tubular vertical de cuarzo para laboratorio Horno tubular

Horno tubular vertical de cuarzo para laboratorio Horno tubular

Horno tubular vertical KINTEK de precisión: calentamiento de 1800℃, control PID, personalizable para laboratorios. Ideal para CVD, crecimiento de cristales y ensayos de materiales.

Ultra Alto Vacío Ventana de Observación Brida de Acero Inoxidable Vidrio de Zafiro Mirilla para KF

Ultra Alto Vacío Ventana de Observación Brida de Acero Inoxidable Vidrio de Zafiro Mirilla para KF

Ventana de observación de brida KF con cristal de zafiro para vacío ultraalto. Acero inoxidable 304 duradero, 350℃ de temperatura máxima. Ideal para semiconductores y la industria aeroespacial.

Horno de mufla de alta temperatura para descongelación y presinterización en laboratorio

Horno de mufla de alta temperatura para descongelación y presinterización en laboratorio

Horno de pre-sinterización y desaglomerado KT-MD para cerámica: control preciso de la temperatura, diseño energéticamente eficiente, tamaños personalizables. Aumente la eficiencia de su laboratorio hoy mismo.

Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD

Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío Máquina CVD

Horno tubular CVD de cámara partida con estación de vacío - Horno de laboratorio de 1200°C de alta precisión para la investigación de materiales avanzados. Soluciones personalizables disponibles.

Horno Rotativo Eléctrico Planta de Pirólisis Máquina Pequeño Horno Rotativo Calcinador

Horno Rotativo Eléctrico Planta de Pirólisis Máquina Pequeño Horno Rotativo Calcinador

Horno rotatorio eléctrico KINTEK: Calcinación, pirólisis y secado precisos de 1100℃. Ecológico, calefacción multizona, personalizable para laboratorio y necesidades industriales.

Brida CF de ultra alto vacío Ventanilla de observación de cristal de zafiro de acero inoxidable

Brida CF de ultra alto vacío Ventanilla de observación de cristal de zafiro de acero inoxidable

Ventana de visualización de zafiro CF para sistemas de vacío ultraalto. Duradera, clara y precisa para aplicaciones de semiconductores y aeroespaciales. ¡Explore las especificaciones ahora!

Válvula de bola de alto vacío de acero inoxidable 304 316 para sistemas de vacío

Válvula de bola de alto vacío de acero inoxidable 304 316 para sistemas de vacío

Las válvulas de bola de vacío y válvulas de cierre de acero inoxidable 304/316 de KINTEK garantizan un sellado de alto rendimiento para aplicaciones industriales y científicas. Explore soluciones duraderas y resistentes a la corrosión.

Horno de tubo CVD versátil hecho a medida Equipo de deposición química de vapor CVD Máquina

Horno de tubo CVD versátil hecho a medida Equipo de deposición química de vapor CVD Máquina

El horno tubular CVD de KINTEK ofrece un control preciso de la temperatura hasta 1600°C, ideal para la deposición de películas finas. Personalizable para necesidades de investigación e industriales.

Máquina de horno tubular inclinado de deposición química mejorada por plasma PECVD

Máquina de horno tubular inclinado de deposición química mejorada por plasma PECVD

Horno tubular PECVD avanzado para la deposición precisa de películas finas. Calentamiento uniforme, fuente de plasma RF, control de gas personalizable. Ideal para la investigación de semiconductores.

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema RF PECVD Deposición química en fase vapor mejorada con plasma por radiofrecuencia

Sistema PECVD RF KINTEK: Deposición de película fina de precisión para semiconductores, óptica y MEMS. Proceso automatizado a baja temperatura con película de calidad superior. Soluciones personalizadas disponibles.


Deja tu mensaje