Conocimiento ¿Cuáles son las especificaciones para el calentamiento por inducción de media frecuencia en hornos de grafitización al vacío? Precisión y rendimiento
Avatar del autor

Equipo técnico · Kintek Furnace

Actualizado hace 1 día

¿Cuáles son las especificaciones para el calentamiento por inducción de media frecuencia en hornos de grafitización al vacío? Precisión y rendimiento

El calentamiento por inducción de media frecuencia en hornos de grafitización al vacío está diseñado para aplicaciones de alta temperatura con control y uniformidad precisos. Las especificaciones clave incluyen tamaños de área de trabajo (700x700x1500 mm a 1000x1000x2000 mm), una temperatura máxima de 2850°C y una uniformidad de temperatura de ±15 a ±20°C. El horno funciona con un vacío final de 50 Pa y mantiene una tasa de aumento de presión de 0,67 Pa/h. Estos hornos son versátiles, ya que admiten tanto el calentamiento por inducción de media frecuencia como el calentamiento por resistencia, y se utilizan en la ciencia de materiales, la investigación de semiconductores y la fabricación aditiva. Presentan una construcción robusta, excelentes propiedades térmicas y sistemas de control avanzados para un funcionamiento automatizado.

Explicación de los puntos clave:

  1. Tamaños del área de trabajo:

    • Las dimensiones estándar incluyen 700x700x1500 mm, 800x800x1600 mm y 1000x1000x2000 mm.
    • Estos tamaños se adaptan a diversas aplicaciones industriales y de investigación, garantizando flexibilidad para diferentes tamaños de piezas de trabajo.
  2. Especificaciones de temperatura:

    • Temperatura máxima: 2850°C, adecuada para procesos de alta temperatura como grafitización y sinterización.
    • Uniformidad de temperatura: de ±15 a ±20°C, lo que garantiza un calentamiento uniforme en toda la pieza de trabajo para obtener resultados fiables.
  3. Rendimiento de vacío:

    • Vacío final: 50 Pa, fundamental para evitar la oxidación y la contaminación durante los procesos a alta temperatura.
    • Índice de aumento de presión: 0,67 Pa/h, lo que indica la capacidad del horno para mantener un entorno de vacío estable a lo largo del tiempo.
  4. Métodos de calentamiento:

    • Admite tanto el calentamiento por inducción de media frecuencia como el calentamiento por resistencia.
    • La inducción de frecuencia media es ideal para un calentamiento rápido y localizado, mientras que el calentamiento por resistencia ofrece una distribución uniforme de la temperatura.
  5. Material y construcción:

    • Resistente a las vibraciones, al calor y a la corrosión, lo que garantiza su durabilidad y una larga vida útil.
    • Presenta una baja conductividad térmica y una excelente fusión térmica, lo que mejora la eficiencia energética y el rendimiento.
  6. Aplicaciones:

    • Ciencia de materiales: Síntesis de cerámicas, compuestos y nanomateriales.
    • Investigación de semiconductores: Procesos de recocido y difusión.
    • Ingeniería biomédica: Sinterización de implantes biocompatibles.
    • Fabricación aditiva: Postprocesado de piezas impresas en 3D.
  7. Control y automatización:

    • Controladores programables (sistemas PID/PLC de 51 segmentos) para protocolos automatizados de calentamiento, enfriamiento y tiempo de permanencia.
    • Interfaces de pantalla táctil e integración opcional con PC para control remoto y registro de datos.
  8. Características de seguridad:

    • Protección contra sobretemperatura y mecanismos de apagado automático para garantizar un funcionamiento seguro.
    • Opciones de instrumentación avanzada como controladores de tiristores y sistemas SCADA para una supervisión precisa.
  9. Elemento calefactor de alta temperatura:

  10. Versatilidad:

    • Se utiliza en diversas industrias, como la joyería, la aeroespacial y la fabricación de válvulas, para procesos como la fusión, la fundición y el refinado de metales de gran pureza.

Estas especificaciones hacen del calentamiento por inducción de media frecuencia en hornos de grafitización al vacío una elección fiable para aplicaciones industriales y de investigación de alta temperatura, combinando precisión, durabilidad y funciones de control avanzadas.

Tabla resumen:

Especificación Detalles
Tamaños del área de trabajo 700x700x1500 mm a 1000x1000x2000 mm
Temperatura máxima 2850°C
Uniformidad de temperatura ±15 a ±20°C
Vacío final 50 Pa
Tasa de aumento de presión 0,67 Pa/h
Métodos de calentamiento Inducción de media frecuencia y calentamiento por resistencia
Aplicaciones Ciencia de materiales, investigación de semiconductores, fabricación aditiva
Sistemas de control PID/PLC de 51 segmentos, pantalla táctil, supervisión remota
Funciones de seguridad Protección contra sobretemperatura, apagado automático, integración SCADA

Actualice su laboratorio con soluciones de calentamiento de precisión Los hornos de grafitización al vacío de KINTEK combinan un avanzado calentamiento por inducción de media frecuencia, una construcción robusta y sistemas de control automatizados para satisfacer sus necesidades industriales y de investigación a altas temperaturas. Tanto si se dedica a la ciencia de materiales como al desarrollo de semiconductores o a la fabricación aditiva, nuestros hornos ofrecen un rendimiento y una fiabilidad inigualables. Póngase en contacto con nosotros para hablar de soluciones personalizadas adaptadas a sus especificaciones.

Productos que podría estar buscando

Ventanas de observación de alto vacío para supervisión en tiempo real Pasamuros de vacío de precisión para integración eléctrica Elementos calefactores de MoSi2 de alta temperatura Sistemas MPCVD para síntesis de diamante Hornos rotativos compactos para regeneración de materiales

Productos relacionados

Pequeño horno de tratamiento térmico al vacío y sinterización de alambre de tungsteno

Pequeño horno de tratamiento térmico al vacío y sinterización de alambre de tungsteno

Horno compacto de sinterización de alambre de tungsteno al vacío para laboratorios. Diseño preciso y móvil con integridad de vacío superior. Ideal para la investigación de materiales avanzados. Póngase en contacto con nosotros

Horno de Vacío de Prensa Caliente Máquina de Prensa de Vacío Calentado

Horno de Vacío de Prensa Caliente Máquina de Prensa de Vacío Calentado

Horno de prensado en caliente al vacío KINTEK: Calentamiento y prensado de precisión para una densidad de material superior. Personalizable hasta 2800°C, ideal para metales, cerámica y materiales compuestos. ¡Explore las funciones avanzadas ahora!

Horno tubular de vacío de laboratorio de alta presión Horno tubular de cuarzo

Horno tubular de vacío de laboratorio de alta presión Horno tubular de cuarzo

Horno tubular de alta presión KINTEK: Calentamiento de precisión hasta 1100°C con control de presión de 15Mpa. Ideal para sinterización, crecimiento de cristales e investigación de laboratorio. Soluciones personalizables disponibles.

Horno de prensado en caliente al vacío Horno tubular de prensado al vacío calentado

Horno de prensado en caliente al vacío Horno tubular de prensado al vacío calentado

Descubra el avanzado Horno de Prensado en Caliente de Tubo al Vacío de KINTEK para sinterizado preciso a alta temperatura, prensado en caliente y unión de materiales. Soluciones personalizables para laboratorios.

Horno de sinterización y soldadura para tratamiento térmico en vacío

Horno de sinterización y soldadura para tratamiento térmico en vacío

Los hornos de soldadura al vacío KINTEK proporcionan uniones limpias y precisas con un control superior de la temperatura. Personalizables para diversos metales, ideales para aplicaciones aeroespaciales, médicas y térmicas. Solicite un presupuesto

Horno de tratamiento térmico al vacío de molibdeno

Horno de tratamiento térmico al vacío de molibdeno

Horno de vacío de molibdeno de alto rendimiento para un tratamiento térmico preciso a 1400°C. Ideal para sinterización, soldadura fuerte y crecimiento de cristales. Duradero, eficiente y personalizable.

Horno de sinterización y tratamiento térmico en vacío por inducción de 600T

Horno de sinterización y tratamiento térmico en vacío por inducción de 600T

Horno de prensado en caliente por inducción al vacío de 600T para una sinterización precisa. Presión avanzada de 600T, calentamiento a 2200°C, control de vacío/atmósfera. Ideal para investigación y producción.

Sinterización de porcelana dental circonio cerámica horno de vacío de prensa

Sinterización de porcelana dental circonio cerámica horno de vacío de prensa

Horno de prensado al vacío de precisión para laboratorios: precisión de ±1°C, 1200°C máx., soluciones personalizables. ¡Aumente la eficiencia de la investigación hoy mismo!

Horno de sinterización al vacío para tratamiento térmico Horno de sinterización al vacío para alambre de molibdeno

Horno de sinterización al vacío para tratamiento térmico Horno de sinterización al vacío para alambre de molibdeno

El horno de sinterización de alambre de molibdeno al vacío de KINTEK destaca en procesos de alta temperatura y alto vacío para sinterización, recocido e investigación de materiales. Consiga un calentamiento preciso a 1700°C con resultados uniformes. Soluciones personalizadas disponibles.

Horno de sinterización de tratamiento térmico al vacío con presión para sinterización al vacío

Horno de sinterización de tratamiento térmico al vacío con presión para sinterización al vacío

El horno de sinterización a presión en vacío de KINTEK ofrece una precisión de 2100℃ para cerámica, metales y materiales compuestos. Personalizable, de alto rendimiento y libre de contaminación. ¡Pida presupuesto ahora!

Máquina de horno de prensado en caliente al vacío para laminar y calentar

Máquina de horno de prensado en caliente al vacío para laminar y calentar

Prensa de laminación al vacío KINTEK: Encolado de precisión para aplicaciones de obleas, películas finas y LCP. Temperatura máxima de 500°C, presión de 20 toneladas, certificación CE. Soluciones personalizadas disponibles.

Horno de tratamiento térmico al vacío con revestimiento de fibra cerámica

Horno de tratamiento térmico al vacío con revestimiento de fibra cerámica

El horno de vacío con revestimiento de fibra cerámica de KINTEK ofrece un procesamiento preciso a alta temperatura de hasta 1700 °C, garantizando una distribución uniforme del calor y eficiencia energética. Ideal para laboratorios y producción.

Horno de sinterización y tratamiento térmico al vacío con presión de aire de 9MPa

Horno de sinterización y tratamiento térmico al vacío con presión de aire de 9MPa

Consiga una densificación cerámica superior con el avanzado horno de sinterización por aire a presión de KINTEK. Alta presión de hasta 9 MPa, control preciso de 2200 ℃.

Horno de tubo CVD versátil hecho a medida Equipo de deposición química de vapor CVD Máquina

Horno de tubo CVD versátil hecho a medida Equipo de deposición química de vapor CVD Máquina

El horno tubular CVD de KINTEK ofrece un control preciso de la temperatura hasta 1600°C, ideal para la deposición de películas finas. Personalizable para necesidades de investigación e industriales.

Brida CF de ultra alto vacío Ventanilla de observación de cristal de zafiro de acero inoxidable

Brida CF de ultra alto vacío Ventanilla de observación de cristal de zafiro de acero inoxidable

Ventana de visualización de zafiro CF para sistemas de vacío ultraalto. Duradera, clara y precisa para aplicaciones de semiconductores y aeroespaciales. ¡Explore las especificaciones ahora!

2200 ℃ Horno de sinterización y tratamiento térmico en vacío de tungsteno

2200 ℃ Horno de sinterización y tratamiento térmico en vacío de tungsteno

Horno de vacío de tungsteno de 2200 °C para el procesamiento de materiales a alta temperatura. Control preciso, vacío superior, soluciones personalizables. Ideal para aplicaciones industriales y de investigación.

Brida de ventana de observación de ultra alto vacío CF con mirilla de vidrio de borosilicato de alta

Brida de ventana de observación de ultra alto vacío CF con mirilla de vidrio de borosilicato de alta

Brida de ventana de observación de ultra alto vacío CF con vidrio de borosilicato de alta calidad para aplicaciones UHV precisas. Duradera, transparente y personalizable.

Elementos calefactores térmicos de carburo de silicio SiC para hornos eléctricos

Elementos calefactores térmicos de carburo de silicio SiC para hornos eléctricos

Elementos calefactores de SiC de alto rendimiento para laboratorios, que ofrecen una precisión de 600-1600°C, eficiencia energética y larga vida útil. Soluciones personalizables disponibles.

1400℃ Horno de atmósfera de nitrógeno inerte controlada

1400℃ Horno de atmósfera de nitrógeno inerte controlada

Horno de atmósfera controlada KT-14A para laboratorios e industria. Temperatura máxima de 1400°C, sellado al vacío, control de gas inerte. Soluciones personalizables disponibles.

1700℃ Horno de atmósfera de nitrógeno inerte controlada

1700℃ Horno de atmósfera de nitrógeno inerte controlada

Horno de atmósfera controlada KT-17A: Calentamiento preciso a 1700°C con control de vacío y gas. Ideal para sinterización, investigación y procesamiento de materiales. ¡Explórelo ahora!


Deja tu mensaje