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Descubra cómo la PECVD utiliza plasma para depositar películas delgadas a bajas temperaturas, ideal para semiconductores y materiales sensibles al calor. Conozca el proceso y sus beneficios.
Descubra cómo la Deposición Química de Vapor Asistida por Plasma (PECVD) utiliza la energía del plasma para depositar películas delgadas a bajas temperaturas, permitiendo el recubrimiento de sustratos sensibles al calor.
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